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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
載氣的純化在靈敏度要求高的地方是一種*的手段，例如在氣相色譜中，即使有低于PPB級的不純氣體也會影響檢測器的靈敏度，損壞毛細(xì)柱。Valco生產(chǎn)的氦氣純化器（HP2）和氮?dú)饧兓鳎∟P2）可以將氦氣及其他惰性氣體中的PPM級以下的不純氣體純化，為各種需要氦氣及其他惰性氣體的系統(tǒng)提高純氣，如HP Atomic Emissions檢測器，Valco Pulse Discharge Helium Ionization檢測器。
Valco 氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無揮發(fā)性的吸附性合金，熔合性好，穩(wěn)定性高，可以安全簡單地使用。
吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成。這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散，防止氧氣鈍化層的形成。又可以進(jìn)行雜氣的吸附。HP2，NP2的吸附劑材料具有良好的熱穩(wěn)定性，包括兩個(gè)溫度控制范圍。
規(guī)格 | 氦氣純化器 貨號 | 氮?dú)饧兓?/B> 貨號 |
110VAC | HP-2 | NP2 |
230VAC | HP2-220 | NP2-220 |
純化芯 | I-23572HP2 | I-23572NP |
參數(shù)
氦氣純化器 | |
純化氣體： | He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn |
zui大操作壓力： | 1000 psig |
不純氣去除： | 輸入氣雜質(zhì)濃度在10ppm 純化輸出低于10ppb H2O, H2, O2, N2, NO, NH3, CO, CO2, CH4, 其他氣體去除包括CF4, CCl4, SiH4, H2 |
不被去除的： | He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn |
氮?dú)饧兓?/B> | |
純化氣體： | 只純化N2 |
不純氣去除： | 輸入氣雜質(zhì)濃度在10ppm 純化輸出低于10ppb H2O, H2, O2, NO, NH3, CO, CO2, CH4, 其他氣體去除包括CF4, CCl4, SiH4, H2 |
不被去除的： | 同氦氣純化器 |