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鍍膜機技術(shù)參數(shù)

時間:2023/3/23閱讀:1976
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技術(shù)參數(shù):

1. 真空室:∅220mm*H400mm;
2.  可鍍最大工件尺寸:60*60mm,配抽拉式樣品臺, 樣品可旋轉(zhuǎn);另配備銅基板樣品臺;
3.  真空系統(tǒng):機械泵+分子泵抽氣系統(tǒng); 極限真空度:優(yōu)于 5*10-5Pa;
4. 抽氣時間:大氣壓~8*10-4Pa 小于 30min;
5. 蒸發(fā):電阻式蒸發(fā)電極(1 對),可達到 1800℃(只要熔點低于 1600 度的都可以蒸鍍)功率:2KW;
 6. 開啟方式:正面開門結(jié)構(gòu),便于換絲及裝料;
 7. 水冷循環(huán)系統(tǒng) 0.5P;
 注:可根據(jù)用戶需要進行配置調(diào)整!

設(shè)備結(jié)構(gòu)介紹:

該設(shè)備由真空室、真空機組和電氣系統(tǒng)組成

1. 真空室

圓形形腔體,側(cè)部抽氣,正面開門。不銹鋼材質(zhì),配 DN60 觀察窗(含防污擋板)、預(yù)抽接口、充氣接口; 內(nèi)部有底板、蒸發(fā)源等;

2. 真空系統(tǒng)及進氣

采用 110L 分子泵+4L 旋片式機械泵。采用真空波紋管連接,配有復(fù)合式數(shù)顯真空測量儀表。

3. 電氣系統(tǒng)

電氣系統(tǒng)包括真空機組控制、蒸發(fā)與烘烤控制、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機構(gòu),有效防止誤操作發(fā)生。系統(tǒng)配有 1 套蒸發(fā)電源,數(shù)顯。

4. 膜厚測量裝置:采用石英晶振膜厚儀及水冷探頭一套(選配)。


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