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天津泰諾科學(xué)技術(shù)有限公司
初級(jí)會(huì)員 | 第2年

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TEM氮化硅窗格
  • TEM氮化硅窗格

更新時(shí)間:2025-03-02 21:00:08

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氮化硅支持膜主要用于納米技術(shù)以及分子生物學(xué)的研究。氮化硅支持膜極其穩(wěn)定可抵抗溫度變化上升至1000攝氏度,納米粒子和細(xì)胞樣品可直接在支持膜上進(jìn)行操作。

氮化硅為無(wú)定形態(tài),無(wú)碳,無(wú)雜質(zhì);具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性使圖像分辨率和機(jī)械強(qiáng)度達(dá)到理想的平衡;其支持膜具有良好的平整度和疏水性。同一種膜可應(yīng)用于TN-EM、SEM、EDX、AFM、XPS等對(duì)同一區(qū)域的交叉配對(duì)表征。薄膜和基底耐酸,可滿足酸性條件下制備、研究樣品。

產(chǎn)品編號(hào)

薄膜厚度

薄膜厚度

TN-G010Z

10nm

0.10x0.10mm

TN-G015Z

10nm

0.15x0.15mm

TN-G025A

15nm

0.25x0.25mm

TN-G050A

15nm

0.5x0.5mm

TN-G025B

30nm

0.25x0.25mm

TN-G050B

30nm

0.5x0.5mm

TN-G025C

50nm

0.25x0.25mm

TN-G050C

50nm

0.5x0.5mm

TN-G100C

50nm

1x1mm

TN-G050D

100nm

0.5x0.5mm

TN-G025E

200nm

0.25x0.25mm

TN-G050E

200nm

0.5x0.5mm

TN-R010Z

10nm

0.1x0.1mm x9窗口

TN-R010A

15nm

0.1x0.1mm x9窗口

TN-R010B

30nm

0.1x0.1mm x9窗口

TN-R010C

50nm

0.1x0.1mm x9窗口

TN-A015A

15nm

0.1x1.5mmx2窗口

TN-AA015C

50nm

0.1x1.5mmx9窗口


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