創(chuàng)新型膠體磨，創(chuàng)新膠體磨，改進型膠體磨，改良型膠體磨，研磨分散膠體磨，研磨分散機

上海SGN技術，*創(chuàng)意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改進，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改進成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改進型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種創(chuàng)新的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

創(chuàng)新型膠體磨，這種*的設計，放眼世界，獨上海SGN一家，更多關于的信息，請接洽上思峻！                         
           


創(chuàng)新膠體磨，研磨分散機，簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機，合二為一了。同時具備膠體磨和分散機的功能，并且減少了膠體磨和分散機串連后的，時間差因素。從成本上來講，原先兩臺設備的價格，現(xiàn)在用一臺研磨分散機就可以完成，性價比更高。

GMD2000系列創(chuàng)新膠體磨，研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

GMD2000系列創(chuàng)新膠體磨，研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

  
         
GMD2000系列創(chuàng)新膠體磨，研磨分散機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

，研磨分散機，研磨均質(zhì)機，研磨乳化機，全新的設計理念，超高設備剪切力，以及穩(wěn)定的設備運行，SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設備服務！