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半導體潔凈室管理辦法如下

2024-3-22  閱讀(787)

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1、內部要保持大于一大氣壓的環(huán)境,以確保粉塵只出不進。所以需要大型鼓風機,將經濾網的空氣源源不絕地打入潔凈室中。
2、為保持溫度與濕度的恒定,大型空調設備須搭配于前述之鼓風加壓系統(tǒng)中。換言之,鼓風機加壓多久,冷氣空調也開多久。
3、氣流方向均由上往下為主,盡量減少突兀之室內空間設計或機臺擺放調配,使粉塵在潔凈室內回旋停滯的機會與時間減至更低程度。
4、建材均以不易產生靜電吸附的材質為主。
5、人事物進出,都必須經過空氣吹浴 (air shower) 的程序,將表面粉塵先行去除。
6、人體及衣物的毛屑是一項主要粉塵來源,為此務必嚴格要求進出使用人員穿戴無塵衣,除了眼睛部位外,均需與外界隔絕接觸 (在次微米制程技術的工廠內,工作人員幾乎穿戴得像航天員一樣。) 當然,化妝是在禁絕之內,鉛筆等也禁止使用。
7、除了空氣外,水的使用也只能限用去離子水 (DI water, de-ionized water)。一則防止水中粉粒污染晶圓,二則防止水中重金屬離子,如鉀、鈉離子污染金氧半 (MOS) 晶體管結構之帶電載子信道 (carrier channel),影響半導體組件的工作特性。去離子水以電阻率 (resistively) 來定義好壞,一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格;為此需動用多重離子交換樹脂、RO逆滲透、與UV紫外線shajun等重重關卡,才能放行使用。由于去離子水是更佳的溶劑與清潔劑,其在半導體工業(yè)之使用量極為驚人!
8、潔凈室用得到的氣源,包括吹干晶圓及機臺空壓所需要的,都得使用氮氣 (98%),吹干晶圓的氮氣甚至要求99.8%以上的高純氮! 以上八點說明是zui基本的要求,另還有污水處理、廢氣排放的環(huán)保問題,再需要大筆的建造與維護費用!

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