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1、內(nèi)部要保持大于一大氣壓的環(huán)境，以確保粉塵只出不進。所以需要大型鼓風機，將經(jīng)濾網(wǎng)的空氣源源不絕地打入潔凈室中。
2、為保持溫度與濕度的恒定，大型空調(diào)設備須搭配于前述之鼓風加壓系統(tǒng)中。換言之，鼓風機加壓多久，冷氣空調(diào)也開多久。
3、氣流方向均由上往下為主，盡量減少突兀之室內(nèi)空間設計或機臺擺放調(diào)配，使粉塵在潔凈室內(nèi)回旋停滯的機會與時間減至更低程度。
4、建材均以不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì)為主。
5、人事物進出，都必須經(jīng)過空氣吹浴 (air shower) 的程序，將表面粉塵先行去除。
6、人體及衣物的毛屑是一項主要粉塵來源，為此務必嚴格要求進出使用人員穿戴無塵衣，除了眼睛部位外，均需與外界隔絕接觸 (在次微米制程技術(shù)的工廠內(nèi)，工作人員幾乎穿戴得像航天員一樣。) 當然，化妝是在禁絕之內(nèi)，鉛筆等也禁止使用。
7、除了空氣外，水的使用也只能限用去離子水 (DI water, de-ionized water)。一則防止水中粉粒污染晶圓，二則防止水中重金屬離子，如鉀、鈉離子污染金氧半 (MOS) 晶體管結(jié)構(gòu)之帶電載子信道 (carrier channel)，影響半導體組件的工作特性。去離子水以電阻率 (resistively) 來定義好壞，一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格；為此需動用多重離子交換樹脂、RO逆滲透、與UV紫外線shajun等重重關(guān)卡，才能放行使用。由于去離子水是更佳的溶劑與清潔劑，其在半導體工業(yè)之使用量極為驚人！
8、潔凈室用得到的氣源，包括吹干晶圓及機臺空壓所需要的，都得使用氮氣 (98%)，吹干晶圓的氮氣甚至要求99.8%以上的高純氮！ 以上八點說明是zui基本的要求，另還有污水處理、廢氣排放的環(huán)保問題，再需要大筆的建造與維護費用!
