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    小王子介紹有關(guān)ALD設(shè)備的其他信息1.ALD、CVD、PVD技術(shù)的區(qū)別CVD是一種薄膜沉積技術(shù),以“化學(xué)氣相沉積”的縮寫命名,PVD是“物理氣相沉積”的縮寫。由于ALD使用氣體,因此也稱為CVD的一種。然而,與CVD不同,CVD中氣體分解產(chǎn)生的SiO2和SiNx等化合物會像灰塵一樣堆積,而ALD的不同之處在于它可以一次形成一層薄膜。PVD是一種利用物理方法而不是氣體形成薄膜的技術(shù)。PVD是在真空中對成膜材料進行加熱、濺射、離子束照射或激光照射,使成膜材料蒸發(fā)、分散成顆粒,然后附著沉積在目標物體上
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