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半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備
| 波長 | 185納米、254納米 |
|---|---|
| 目的 | 清潔/修改 |
| 行業(yè) | 半導(dǎo)體制造 |
| 待安裝設(shè)備 | 半導(dǎo)體清洗設(shè)備 |
UV照射設(shè)備用于清洗半導(dǎo)體晶圓。紫外線照射會產(chǎn)生臭氧，去除晶圓表面的有機物。半導(dǎo)體晶圓紫外臭氧清洗設(shè)備可用于原型/開發(fā)和批量生產(chǎn)。原型機和開發(fā)機是半自動的，生產(chǎn)能力低，而量產(chǎn)機是自動化機。
UV照射設(shè)備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當(dāng)185nm紫外線被氧氣吸收時，產(chǎn)生臭氧（O3）并產(chǎn)生活性氧。
這個應(yīng)用程序用過的解決問題的例子
更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上
目的
接觸
行業(yè)
半導(dǎo)體制造
設(shè)備
涂布機開發(fā)商
波長
365nm
任務(wù)
初始成本和運行成本降低
