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艾博納微納米科技(江蘇)有限責(zé)任公司

  • 牛津儀器 RIE 半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 參考價(jià): 面議

    參考價(jià): 面議 型號(hào):Plasmalab 133
    牛津儀器 RIE 半導(dǎo)體刻蝕機(jī)支持的晶圓尺寸最大為300mm(330mm基臺(tái))RIE設(shè)置為GaN刻蝕射頻功率:600W,13.56MHz水冷電極:10C-80C...
    型號(hào): Plasmalab... 品牌:ABNER/艾博納所在地:淮安市 對(duì)比
    進(jìn)口刻蝕機(jī)材料刻蝕機(jī)等離子體刻蝕微納米級(jí)刻蝕反應(yīng)離子刻蝕
    2025/5/12 13:58:10609

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