日本SEN日森 UV/EB清洗系統(tǒng)PM2001N-3工作原理：

光分解作用：可同時(shí)發(fā)射波長 254nm 和 185nm 的紫外光，這兩種波長的光子能量能夠直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。

光敏氧化作用：185nm 波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O?）分解成臭氧（O?）；254nm 波長的紫外光的光能量能將 O?分解成 O?和活性氧（O）。活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物分子發(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如 CO?、CO、H?O、NO 等）逸出物體表面，從而清除粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。

日本SEN日森 UV/EB清洗系統(tǒng)應(yīng)用場景：

電子行業(yè)：可用于液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板等的表面清洗，去除光刻膠、油污、指紋等污染物，提高后續(xù)工藝的良品率和可靠性。

光學(xué)行業(yè)：能對(duì)光學(xué)器件、石英晶體等進(jìn)行清洗，去除表面的灰塵、油污和有機(jī)雜質(zhì)，保證光學(xué)性能和成像質(zhì)量。

材料處理領(lǐng)域：用于各種基材的預(yù)處理，如金屬和玻璃，可改善表面潤濕性，提高對(duì)粘合劑、油漆和涂料的附著力。

其他領(lǐng)域：在密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料處理等方面也有應(yīng)用，有助于提高材料的表面性能和使用壽命。