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更新時間：2022-11-30 17:40:48瀏覽次數(shù)：279評價

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ICP Etching

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產(chǎn)品簡介

單晶圓刻蝕技術(shù)的進展憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗，我們的技術(shù)既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。

詳細介紹

PlasmaPro 100 Polaris專為刻蝕堅硬材料（如GaN，藍寶石和SiC）所需要使用的腐蝕性化學氣體而設(shè)計，可在直徑200mm的晶圓上實現(xiàn)快速均勻刻蝕。

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