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PECVD

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The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) processes on large wafer batches and 300mm wafers, in a compact footprint, open-loading system. The large wafer platen allows for production scale batch processing and 300mm wafer handling. 詢價(jià) 增加到詢價(jià)列表在詢價(jià)列表中查看此產(chǎn)品

詳細(xì)介紹

PlasmaPro 800具有460mm直徑的工作臺(tái)，擁有處理整片的300mm晶圓或大批量43 x 50mm（2”）晶圓的能力，可提供全套量產(chǎn)解決方案。PlasmaPro 800是的市場(chǎng)前列產(chǎn)品。

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