將基線和干擾元素校正（IEC）技術(shù)與電感耦合等離子體光學(xué)發(fā)射光譜法結(jié)合使用，以校正分析信號中來自等離子體、基質(zhì)或分析物以外元素的貢獻(xiàn)。如果沒有對來自這些成分的貢獻(xiàn)進(jìn)行準(zhǔn)確校正，則會導(dǎo)致分析結(jié)果錯誤。但是，這兩種校正技術(shù)均依賴于內(nèi)插或外推的校正因子。本文介紹了珀金埃爾默公司開發(fā)的多譜線光譜擬合（MSF）技術(shù)。
提供商 |
珀金埃爾默企業(yè)管理（上海）有限公司 | 下載次數(shù) |
28次 |
資料大小 |
365.4KB | 資料類型 |
PDF 文件 |
資料圖片 |
-- | 瀏覽次數(shù) |
173次 |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
17
立即詢價
您提交后，專屬客服將第一時間為您服務(wù)