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牛津儀器等離子技術(shù)Mark Dineen博士為您解讀

來(lái)源:深圳譜賽斯科技有限公司   2017年01月05日 11:36  

為射頻器件提供更快刻蝕方式 — 牛津儀器等離子技術(shù)Mark Dineen博士為您解讀

對(duì)射頻器件來(lái)說(shuō),平穩(wěn)快速的碳化硅背部刻蝕對(duì)高性能、高性?xún)r(jià)比的半導(dǎo)體來(lái)說(shuō)是至關(guān)重要的。正如氮化鎵高功率射頻器件市場(chǎng),牛津儀器提供了一種易于制造深孔刻蝕的工藝。牛津儀器等離子技術(shù)市場(chǎng)Mark Dineen博士稱(chēng)在《復(fù)合半導(dǎo)體》刊物中就此技術(shù)做出闡述。

 

“就在上個(gè)月,牛津儀器等離子技術(shù)展示了使用PlasmaPro 100 Polaris刻蝕系統(tǒng)對(duì)碳化硅進(jìn)行深孔刻蝕的工藝。

 

當(dāng)寬帶隙材料對(duì)氮化鎵高功率射頻器件越來(lái)越重要時(shí),單晶圓刻蝕系統(tǒng)須呈現(xiàn)出更快更平穩(wěn)的深孔碳化硅刻蝕,旨在為氮化鎵、藍(lán)寶石和碳化硅晶片等進(jìn)行快速刻蝕。

 

通往平穩(wěn)刻蝕碳化硅的道路任重而道遠(yuǎn)。碳化硅背面刻蝕對(duì)通過(guò)氮化鎵晶體管形成一個(gè)接觸電極而言至關(guān)重要。然而,堅(jiān)硬的碳化硅材質(zhì)對(duì)刻蝕而言是一辛苦的工藝,世界各地的研究人員正在努力克服尋求應(yīng)對(duì)較好處理襯底材質(zhì)硬度接近鉆石的方法。牛津儀器等離子技術(shù)為您解答…”

 

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刻蝕氮化鎵技術(shù):

  • 采用感應(yīng)耦合等離子體源(2或13兆赫茲)進(jìn)行反應(yīng)離子刻蝕
  • 感應(yīng)耦合等離子體
  • 射頻驅(qū)動(dòng)基板電極

結(jié)果:

  • 速率:2微米/分鐘
  • 對(duì)SiO2掩模的選擇比25:1
  • 良好的均勻性
  • 表面光滑

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