主要特點:
UIS無限遠(yuǎn)校正光學(xué)系統(tǒng),提供出色的圖像質(zhì)量;
人機(jī)工程學(xué)的進(jìn)一步改善,使操作更為舒適;
多種高度功能化的附件,能滿足各種檢驗需要。
用途:
針對半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、治金工業(yè)開發(fā)的,作為工業(yè)顯微鏡使用??蛇M(jìn)行明暗場觀察、落射偏光、DIC觀察,廣泛用于工廠、研究機(jī)構(gòu)、高等院校對硅片、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
優(yōu)點:
配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、平場無限遠(yuǎn)長工作距離明暗場物鏡、大視野目鏡、圖像清晰,襯度好。
優(yōu)勢:
緊湊的Y型勻設(shè)計,穩(wěn)定且占地小;
新的光路設(shè)計,光效率更高,采用長壽命鹵素光源;
反射鏡體,可用于明場、簡易偏光、微分干涉相襯觀察;
顯微鏡本體,反射照明器,物鏡轉(zhuǎn)換器都采用防靜電設(shè)計(ESD)。
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