微庫侖綜合分析儀采用動態(tài)庫侖法原理，當樣品在轉化管中燃燒發(fā)生氧化還原反應，由載氣帶入滴定池中滴定，測量電解滴定過程中所消耗的電量，依據(jù)法拉第定律，可得樣品的硫氯含量。

滴定池中的參考電極供給一個恒定的參考電位，并與測量電極組成指示電極對產(chǎn)生一電壓信號。這一信號與外加給定偏壓反向串聯(lián)后加在庫侖放大器的輸入端。當兩電壓值相等時，放大器輸入為零，輸出也為零，在電解電極對之間沒有電流通過，儀器顯示器上是一條平滑的基線。當樣品由注射器注入裂解管, 樣品中的被測物質反應轉化為可滴定離子，并由載氣帶入滴定池，消耗電解液中的滴定劑。滴定劑濃度的變化使滴定池中的指示電極對的電位發(fā)生變化，其值的變化送入微機

控制的微庫侖放大器，經(jīng)放大后加到電解電極對（陰、陽極）上，在陽極上電生出滴定離子，以補充消耗的滴定劑。上述過程隨著滴定離子的消耗連續(xù)進行，直至無消耗滴定離子的物質進入，并已電生出足夠的滴定離子，使指示電極對的值又重新等于給定偏壓值，儀器恢復平衡。在消耗-補充滴定離子的過程中，測量電生滴定劑時的電量，依據(jù)法拉第定律進行數(shù)據(jù)處理，則可計算出樣品含量。

微庫侖綜合分析儀引用計算機控制，采用Windows中文操作平臺，顯示分析過程，打印譜圖和測量結果，同時可根據(jù)要求將參數(shù)結果存盤，長期保存數(shù)據(jù)。

微庫侖綜合分析儀的分步測量用來測定多層鎳鍍層系統(tǒng)中各個單個的鍍層厚度以及各鍍層之間的電化學電位差。在電鍍工業(yè)中，對多層鎳的測量變得越來越重要了，例如雙層鎳的測量已成為一種標準的操作。儀器高的電壓分辨率可以測量頂層為微孔鎳或微裂紋鎳與下層光亮鎳之間的電位，以及光亮鎳和半光亮鎳之間的電位同時測量雙層鎳或三層鎳鍍層的厚度和電化學電位。 幾乎可以測量所有金屬或非金屬基材上的金屬鍍層的厚度，甚至是多鍍層系統(tǒng)。

微庫侖綜合分析儀(硫氯分析儀)廣泛應用于石油、石油化工、醫(yī)藥、衛(wèi)生、環(huán)保、煤炭、地質、冶金、商檢、質檢、學校等生產(chǎn)、科研、監(jiān)測領域中樣品的總硫或總氯含量。