等離子清洗機支持手動和自動化操作,小型等離子清洗機體積和專有的等離子體過程控制實現(xiàn)了的短周期時間,使用專有的算法可以在幾秒鐘內(nèi)實現(xiàn)對腔室的zui大功率.

 等離子清洗機支持手動和自動化操作（內(nèi)置或內(nèi)置處理程序），特別均勻和緊湊的腔室設(shè)計允許可互換的處理配置和等離子體模式，三軸對稱等離子體室確保產(chǎn)品的所有位置均勻處理，而對所有工藝參數(shù)的嚴(yán)格控制確保了產(chǎn)品與產(chǎn)品之間可重復(fù)的結(jié)果。

    小型等離子清洗機體積和專有的等離子體過程控制實現(xiàn)了的短周期時間，而其纖薄的結(jié)構(gòu)使占地面積需求zui小化。通用架構(gòu)可處理多種產(chǎn)品形式因素，包括FPC，PCD，載體，條帶，層壓板，及晶片。根據(jù)吞吐量和產(chǎn)品形式的要求，系統(tǒng)可以配置為單個和多個條帶或引線框架，晶圓處理和獨立于島嶼生產(chǎn)環(huán)境的雜志到雜志的處理。系統(tǒng)自動回收到等離子體就緒狀態(tài)，補償真空壓力，溫度和不同批次尺寸的變化。使用專有的算法可以在幾秒鐘內(nèi)實現(xiàn)對腔室的zui大功率，該算法會持續(xù)測量腔室內(nèi)的向前和反射功率。

 等離子清洗機特點和優(yōu)點：

1、直接，下游和無離子（）等離子體的極限應(yīng)用靈活性，允許在不暴露于離子和紫外線的情況下進行處理

2、輕松集成各種工藝設(shè)備，包括線焊，貼片，分配，模具和標(biāo)記

3、需要zui小占地面積的薄型結(jié)構(gòu)，所有的服務(wù)組件都可以從前面輕松訪問

4、緊湊的三軸對稱室和專有的過程控制，的工藝均勻性

5、行業(yè)的吞吐能力，周期短

  等離子清洗機型號和配置：

   等離子體處理系統(tǒng)：符合先進半導(dǎo)體和電子封裝等離子體清洗和等離子體處理要求的標(biāo)準(zhǔn)配置。

   該型號專門用于處理較大的基板，具有大容量的等離子體室，即9.24升，或標(biāo)準(zhǔn)容量的兩倍。

   等離子體處理系統(tǒng)：全自動化，高通量等離子體處理系統(tǒng)，用于引線框條，層壓基板和其他帶狀微電子元件。由于食譜是軟件驅(qū)動的，系統(tǒng)需要zui少的硬件交互或工具，所以可以輕松地轉(zhuǎn)換到新的雜志或條形尺寸。實際上消除了操作員對條或雜志的處理。

   等離子體處理系統(tǒng)：設(shè)計用于船舶，托盤或其他載體上的微電子設(shè)備的高通量在線處理;是前置倒裝芯片底部填充（FCUF）工藝的理想選擇。*的船只旁路功能優(yōu)化了生產(chǎn)效率，多個在線等離子模塊和生產(chǎn)就緒的雙車道船只處理提高了吞吐量。

   等離子體處理系統(tǒng)：設(shè)計用于引線框條，層壓基板和其他帶狀電子元件的高通量處理。處理每個等離子體循環(huán)zui多5個條帶，并且具有較長等離子體室的每個等離子體循環(huán)可處理多達10個條帶。操作將零件返回同一個雜志。