等離子體-表面技術(shù)的一項(xiàng)重要工藝便是等離子清洗.如何通過(guò)常壓等離子體進(jìn)行清洗,等離子清洗有效期是多少,有效期取決于存放條件、處理參數(shù)以及污染程度。

如何通過(guò)常壓等離子體進(jìn)行清洗？

等離子體-表面技術(shù)的一項(xiàng)重要工藝便是等離子清洗。通過(guò)與電離氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以及經(jīng)壓縮空氣加速的活性氣體射流，將污物顆粒除去，轉(zhuǎn)換為氣相，并通過(guò)真空泵用連續(xù)氣體流將其排出。由此所獲得的純度等級(jí)較高。我們?？吹降入x子清洗機(jī)噴射出來(lái)的火焰，并不是火，而是等離子體。

在發(fā)生氧化銅還原反應(yīng)時(shí)，氧化銅與氫氣的混合氣體-等離子體接觸，氧化物會(huì)發(fā)生化學(xué)還原反應(yīng)，并生成水蒸汽。該氣體混合物中含有 Ar/H2 或者 N2/H2，所含的 H2 大含量低于 5%。對(duì)于常壓等離子體而言，其發(fā)揮作用的時(shí)候具有*的氣體消耗量。

進(jìn)行清洗的時(shí)候，常壓等離子體是如何發(fā)揮作用的？

金屬的等離子清洗有些處理產(chǎn)品被 脂肪、油、蠟和其他有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物（包括氧化層）所覆蓋。

對(duì)于某些應(yīng)用用途而言，表面必須清潔，并且不得存在任何氧化物，例如：

在 濺鍍之前

在 涂層之前

在 粘結(jié)之前

在打印之前

在 PVD- 和 CVD-噴涂之前

對(duì)于某些 特定醫(yī)療應(yīng)用時(shí)對(duì)于分析型傳感器在粘接之前,在對(duì)印刷電路板進(jìn)行錫焊焊接之前,針對(duì)開(kāi)關(guān)等元部件。 塑料的等離子清洗進(jìn)行常壓等離子處理的時(shí)候，等離子清洗不得脫離于等離子活化。作為工藝氣體，通常使用干燥和不含油的壓縮空氣。該原理和金屬的等離子清洗是一致的。

玻璃和陶瓷的等離子清洗：

清洗玻璃和陶瓷 的方法和清洗金屬是一樣的。作為清洗玻璃的工藝氣體 ，通常使用壓縮空氣。一般而言，大多用 壓縮空氣進(jìn)行清洗 。作為重要參數(shù)，此處必須對(duì)距離、速度以及反復(fù)處理（建議是多次進(jìn)行處理）加以考慮。

等離子射流/活性氣體射流是無(wú)電位型的嗎？

是的，Plasma的活性氣體射流不具有任何 或者僅具有極少的電位。故此，Plasma通常用于對(duì)電氣部件進(jìn)行清洗。等離子清洗機(jī)型號(hào)SPA-2000的設(shè)備可用于處理非導(dǎo)電性的材料。Plasma 等離子射流不是無(wú)電位型的。

進(jìn)行等離子清洗的時(shí)候會(huì)產(chǎn)生哪些廢氣？

會(huì)產(chǎn) 氮氧化物 NO 和 NO2。當(dāng)然還可能產(chǎn)生少量的含碳廢氣 (CO2, CO)。

用 PlasmaSPA-2000處理的寬度是多少？

一個(gè)噴嘴的處理寬度為約 8-12 mm。當(dāng)然，每次使用時(shí)都要提前對(duì)清洗寬度進(jìn)行檢測(cè)（例如，接觸角測(cè)量）。使用純氧氣(O2)或者氮?dú)?(N2) 的時(shí)候，處理寬度略微增加。

處理速度可達(dá)到多少？

較之于活化工藝，清洗速度可達(dá)每秒幾 cm。有效清洗需對(duì)表面進(jìn)行升溫，只有借助較低的速度才能達(dá)到這一目的。

等離子清洗機(jī)射流溫度有多高？

等離子射流平均溫度為約 200 – 250 °C。 如果距離和速度設(shè)定是正確的，則表面溫度可達(dá)到約 70 – 80 °C。故此，該項(xiàng)技術(shù)可以用于所有標(biāo)準(zhǔn)材料（金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體）。

用常壓等離子體進(jìn)行的等離子清洗，其有效期是多少？

很可惜，此處無(wú)法提供任何確切的數(shù)字。有效期取決于存放條件、處理參數(shù)以及污染程度。

示例：

潮濕環(huán)境和較高的溫度（20 °C 以上）會(huì)顯著降低等離子處理的有效期。

反復(fù)處理會(huì)增加處理的有效期。

一般來(lái)說(shuō)，金屬、玻璃和陶瓷表面適用以下建議： 粘合、印刷和噴漆應(yīng)在等離子處理后一個(gè)小時(shí)之內(nèi)進(jìn)行，以達(dá)到大值。