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氨逃逸率，一般來說，為SCR脫硝工藝出口，未參與還原反應(yīng)的NH3與出口煙氣總量的體積占比，一般計量單位為ppm,如果用質(zhì)量占比，為mg/m3，也叫氨逃逸濃度。在SCR脫硝工藝過程中，脫硝氨逃逸的量高一般是什么原因引起的：
一、脫硝煙氣流場不均勻，造成局部噴氨量過大引起逃逸率偏高;
二、催化劑中毒后，催化劑反應(yīng)性能下降，使得脫硝過程中噴氨過量;
三、機組在網(wǎng)長時間低負(fù)荷運行SCR系統(tǒng)入口溫度偏低，導(dǎo)致反應(yīng)轉(zhuǎn)化比例偏低，存在氨消耗量偏大。
另一方面也由于低負(fù)荷時風(fēng)量偏低，流場不均也進一步擴大了硫酸氫氨的沉積區(qū)域;
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