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遮光比是當(dāng)使用納米激光粒度儀測(cè)試樣品時(shí)配置的樣品懸浮液的濃度。正確選擇陰影比率是粒度測(cè)量過(guò)程中的重要步驟。遮光率是否合適或樣品的濃度是否合適會(huì)嚴(yán)重影響粒度測(cè)量結(jié)果的性和代表性。
納米激光粒度儀的測(cè)量原理要求樣品的濃度應(yīng)基于樣品中顆粒之間不發(fā)生二次散射的原理。從理論上講，懸浮液或空氣中顆粒之間的距離應(yīng)為粒徑的3倍，但是，這一要求很難掌握，因此在實(shí)際粒度測(cè)試中，調(diào)整陰影比值以確保存在粒子之間沒(méi)有二次散射。陰影比例不應(yīng)太大（大于50％）或太小（小于5％）。遮光率過(guò)大時(shí)，粒子濃度過(guò)高，容易引起二次散射，測(cè)定誤差變大。如果遮蔽率太低，則樣品中的顆粒濃度太低，顆粒數(shù)太少，測(cè)試結(jié)果的代表性非常差，甚至可能導(dǎo)致測(cè)試結(jié)果無(wú)效。因此，在測(cè)試過(guò)程中，應(yīng)重復(fù)選擇遮光比率以獲得正確的測(cè)量結(jié)果。
一般而言，對(duì)于較粗糙的樣品，遮光率可以更高，例如20?30％，正常情況下可以達(dá)到10?25％。對(duì)于超細(xì)樣品，可以適當(dāng)降低樣品的遮光率，但通常不超過(guò)40％。使用納米激光粒度儀進(jìn)行粒度測(cè)試時(shí)，由不同人員操作有時(shí)會(huì)導(dǎo)致測(cè)試結(jié)果不同。如何確保粒度測(cè)試在可重復(fù)性方面，應(yīng)注意以下要求：
1.儀器系統(tǒng)必須穩(wěn)定可靠，包括信號(hào)傳輸系統(tǒng)，數(shù)據(jù)處理，抗干擾等；
2.系統(tǒng)配備循環(huán)分散混合裝置；
3.儀器供應(yīng)商應(yīng)具備提供技術(shù)指導(dǎo)的能力；
4.儀器具有規(guī)范的操作程序功能；
5.注意儀器和操作以外的因素，包括采樣因素和環(huán)境因素。
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