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高溫紅外煙氣分析儀，是利用紅外線進行氣體剖析。它依據(jù)待剖析組分的濃度不同，吸收的輻射能不同.剩下的輻射能使得檢測器里的溫度升高不同，動片薄膜兩頭所受的壓力不同，從而發(fā)生一個電容檢測器的電信號。這樣，高溫紅外煙氣剖析儀就可間接丈量出待剖析組分的濃度。
1.比爾規(guī)律
關(guān)于一臺制造好了的高溫紅外煙氣剖析儀，其丈量組分已定，即待剖析組分對輻射波段的吸收系數(shù)k必定;紅外光源已定，即紅外線經(jīng)過介質(zhì)前的輻射強度I0必定;氣室長度L必定。從比爾規(guī)律可以看出：經(jīng)過丈量輻射能量的衰減I，就可確認待剖析組分的濃度C了。
2.剖析檢測原理
1.比爾規(guī)律
高溫紅外煙氣剖析儀是依據(jù)比爾規(guī)律制成的。假定被測氣體為一個無限薄的平面.強度為k的紅外線筆直穿透它，則能量衰減的量為：I=I0e-KCL(比爾規(guī)律)式中：I--被介質(zhì)吸收的輻射強度;
I0--紅外線經(jīng)過介質(zhì)前的輻射強度;
K--待剖析組分對輻射波段的吸收系數(shù);
C--待剖析組分的氣體濃度;
L--氣室長度(赦測氣體層的厚度)
關(guān)于一臺制造好了的高溫紅外煙氣剖析儀，其丈量組分已定，即待剖析組分對輻射波段的吸收系數(shù)k必定;紅外光源已定，即紅外線經(jīng)過介質(zhì)前的輻射強度I0必定;氣室長度L必定。從比爾規(guī)律可以看出：經(jīng)過丈量輻射能量的衰減I，就可確認待剖析組分的濃度C了。
2.剖析檢測原理
高溫紅外煙氣剖析儀由兩個獨立的光源別離發(fā)生兩束紅外線該射線束別離經(jīng)過調(diào)制器，成為5Hz的射線。依據(jù)實際需要，射線可經(jīng)過一濾光鏡削減背景氣體中其它吸收紅外線的氣體組分的干擾。
高溫紅外煙氣剖析儀紅外線經(jīng)過兩個氣室，一個是充以不斷流過的被測氣體的丈量室，另一個是充以無吸收性質(zhì)的背景氣體的參比室。作業(yè)時，當(dāng)丈量室內(nèi)被測氣體濃度改變時，吸收的紅外線光量發(fā)生相應(yīng)的改變，而基準(zhǔn)光束(參比室光束)的光量不發(fā)生改變。從二室出來的光量差經(jīng)過檢測器，使檢測器發(fā)生壓力差，并變成電容檢測器的電信號。此信號經(jīng)信號調(diào)理電路擴大處理后，送往顯現(xiàn)器以及總控的CRT顯現(xiàn)。該輸出信號的巨細與被淵組分濃度成比例。
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