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高真空蒸發(fā)鍍膜儀可為薄膜應(yīng)用提供理想涂層平臺
高真空蒸發(fā)鍍膜儀可以為薄膜應(yīng)用和其他材料提供理想的涂層平臺,特別適用于場發(fā)射電子顯微鏡，透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網(wǎng)格支撐膜的樣品制備。是全自動程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡單，可以鍍金鉑和其他非氧化的貴金屬和其他易氧化膜材料的細顆粒。
高真空蒸發(fā)鍍膜儀是具有靈活性和模塊化可擴展性的多功能系統(tǒng)，可以適應(yīng)不同的樣品制備。它可用于蒸發(fā)蒸籠和坩堝中的碳和金屬，以及可選的濺射附件蒸發(fā)。可以應(yīng)用一系列行之有效的技術(shù)，包括碳涂層和TEM涂層，碳/金屬蒸發(fā)，使用雙源蒸發(fā)的低角度涂層和順序涂層，以及可選的濺射鍍膜附件可以應(yīng)用于多種目標。其設(shè)計使其操作更容易實現(xiàn)。
1、使用微處理器控制器可以增強系統(tǒng)的靈活性，并且用戶可以輕松添加各種選項。但是，這些“默認”操作已經(jīng)過優(yōu)化，因此可以實現(xiàn)自動和手動操作。
2、*的抽屜式樣品裝載系統(tǒng)便于用戶放入各種樣品，而鉸接式頂蓋結(jié)構(gòu)易于到達系統(tǒng)的其他區(qū)域。
3、渦輪分子泵安裝在系統(tǒng)外部，可以輕松安裝和更換高真空蒸發(fā)鍍膜儀。它的前真空是旋轉(zhuǎn)真空泵。整個泵送過程是*自動化的，在達到高真空后會蒸發(fā)。該儀器是臺式機，使用中的疏忽易于控制且易于損壞。
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