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等離子清洗機,半導(dǎo)體封裝處理設(shè)備

來源:煙臺金鷹科技有限公司   2021年02月26日 16:56  

半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中,受材料、工藝以及環(huán)境的影響,晶圓芯片表面會存在肉眼看不到的各種微粒、有機物、氧化物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質(zhì),而等離子清洗機是合適的清潔工藝處理方法。

等離子清洗機在不破壞晶圓芯片及其他所用材料的表面特性、熱學(xué)特性和電學(xué)特性的前提下,清洗去除晶圓芯片表面的有害沾污雜質(zhì)物,對半導(dǎo)體器件功能性、可靠性、集成度等顯得尤為重要;否則,它們將對半導(dǎo)體器件的性能造成致命缺陷和影響,很大地降低產(chǎn)品良率,并將制約半導(dǎo)體器件的進一步發(fā)展。

等離子清洗機的技術(shù)原理:在密閉的真空腔體中,通過真空泵不斷抽氣,使得壓力值逐漸變小,真空度不斷提高,分子間的間距被拉大,分子間作用力越來越小,利用等離子發(fā)生器產(chǎn)生的高壓交變電場將Ar、H2、N2、O2、CF4等工藝氣體激發(fā)、震蕩形成具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體,進而與有機污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達到表面清潔、活化、刻蝕等目的。

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