等離子清洗機(jī)的清洗原理：等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四中狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

等離子清洗機(jī)去除金屬氧化物

化學(xué)清洗:表面反應(yīng)以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗，又稱(chēng)PE。

例：O2＋e－→ 2O※ +e－     O※＋有機(jī)物→CO2+H2O

從反應(yīng)式可見(jiàn)，氧等離子體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。

例：H2+e-→2H※+e-      H※+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O

從反應(yīng)式可見(jiàn)，氫等離子體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。

物理清洗：表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫濺射腐蝕（SPE）。

例：Ar＋e-→Ar++2e-       Ar++沾污→揮發(fā)性沾污

Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動(dòng)能，然后轟擊被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、環(huán)氧樹(shù)脂溢出或是微顆粒污染物，同時(shí)進(jìn)行表面能活化。

   等離子設(shè)備主要適用于各種材料的表面改性處理：表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及等離子體輔助化學(xué)氣相沉積：

　　表面改性：

　　紙張粘合，塑料粘接、金屬錫焊、電鍍前的表面處理

　　表面活化：

　　生物材料的表面修飾，印刷涂布或粘接前的表面處理，如紡織品的表面處理

　　表面刻蝕：【真空等離子設(shè)備】

　　硅的微細(xì)加工，玻璃等太陽(yáng)能領(lǐng)域的表面刻蝕處理，醫(yī)療器皿表面刻蝕處理

　　表面接枝：

　　材料表面特定基團(tuán)的產(chǎn)生和表面活化的固定

　　表面沉積：

　　疏水性或親水性層的等離子體聚合沉積

　　廣泛應(yīng)用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫滅菌及污染治理等多種領(lǐng)域，是企業(yè)、科研院所進(jìn)行等離子體表面處理的理想設(shè)備。