2021年7月11日
2021年中國材料大會在廈門順利閉幕。徠卡顯微系統(tǒng)（簡稱“徠卡”）攜全套制樣解決方案亮相此會議，并在大會期間進行了學術(shù)分享，吸引眾多參會者聆聽，眾多參會者對徠卡的前沿技術(shù)表現(xiàn)出極大的關(guān)注。

隨著材料制作工藝日益精進，制造成本愈加昂貴，如何確保材料發(fā)揮最佳性能？高效的檢測分析是至關(guān)重要的一個環(huán)節(jié)，徠卡高效高質(zhì)的電鏡制樣整體解決方案將助您在內(nèi)部結(jié)構(gòu)的觀察分析中獲得真實的電鏡結(jié)果。
沒有出席材料大會的您也不用為錯過精彩報告而失望，下面就和小編一起看看徠卡在材料制樣中的應用吧！
# 芯片的電鏡制樣方法
在新能源和半導體材料在電鏡研究中，如何定點加工出感興趣位點、無損傷地暴露出真實的材料表面結(jié)構(gòu)，一直是制樣中的難點和重點。針對該領(lǐng)域樣品不同的物理化學性質(zhì)、多變的結(jié)構(gòu)組成等特點，徠卡推出了“機械切割研磨---離子束切割---鍍膜”、“機械切割研磨---離子束拋光---鍍膜”、“超薄切片”等數(shù)種的制樣流程，借此獲得最真實的樣品表面結(jié)構(gòu)、成分信息。

# 材料平整斷面制備方法
材料電鏡制樣方法多種多樣，主要分為掃描電鏡制樣和透射電鏡制樣。
平整斷面制備樣品是掃描電鏡觀察樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)信息的重要方法，我們根據(jù)材料結(jié)構(gòu)和性質(zhì)可制備均質(zhì)和不均質(zhì)的樣品的平整斷面，可以為多層的鍍層結(jié)構(gòu)多孔結(jié)構(gòu)，軟物質(zhì)，硬材料制備平整斷面等，凡是以固態(tài)形式存在的均可制備平整斷面實現(xiàn)內(nèi)部結(jié)構(gòu)的研究。

# 徠卡電鏡制樣在新能源和半導體材料領(lǐng)域的應用
在新能源和半導體材料電鏡分析中，如何定點暴露出最真實的材料表面結(jié)構(gòu)，一直是制樣中的難點和重點。針對該領(lǐng)域樣品不同的物理化學性質(zhì)、多變的結(jié)構(gòu)組成等特點，徠卡推出了數(shù)種的制樣流程，旨在幫助客戶得到最真實的樣品結(jié)構(gòu)、成分信息。

徠卡精研一體機EM TXP以其多功能性可為電鏡，原子力顯微鏡，光學顯微鏡，納米壓痕等制備平行度高的斷面，也可為離子束，離子減薄等設(shè)備做前處理，實現(xiàn)高效互補的樣品制備。

徠卡 EM TXP

徠卡三離子束設(shè)備EM TIC 3X是無應力加工的設(shè)備，可實現(xiàn)樣品的無應力加工，金屬，高分子，新能源材料等均可加工，不耐熱的樣品也可實現(xiàn)其冷凍的加工。

 徠卡 EM TIC 3X

徠卡EM ACE600是一款高真空鍍膜儀，采用全無油真空系統(tǒng)，真空度可達2x10-6mbar。鍍膜細膩均勻。內(nèi)置石英膜厚監(jiān)控器，可精確控制鍍膜厚度。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作?？蛇x離子濺射鍍膜功能，滿足高分辨場發(fā)射掃描電鏡需求，可選碳絲碳棒蒸發(fā)鍍膜功能，用于X射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)噴碳膜。還可選擇電子束蒸發(fā)鍍膜，用于DNA投影等高級應用。

徠卡 EM ACE600

革新性的光學概念，克服了傳統(tǒng)體視顯微鏡的固有局限性，擁有徠卡Fusion Optics融合光學技術(shù)。Leica M205 C是擁有20.5:1變倍比的體視顯微鏡，光學分辨率高達0 . 9 2 5 μ m ，內(nèi)置可調(diào)雙光闌，可調(diào)景深和分辨率。同時M205 C也是一款編碼顯微鏡，可自動控制照明強度，可自動識別所采集的照片倍數(shù)，并加載相應倍數(shù)的比例尺。存儲圖像時，參數(shù)隨同圖像一起保存，以便隨時調(diào)用。

徠卡 M205 C

為期3天的交流雖然結(jié)束，但徠卡致力于推動材料制樣發(fā)展的激情和使命沒有停止。每位徠卡人始終希望通過自己的不懈努力，持續(xù)為中國市場帶來完善、先進的制樣產(chǎn)品與服務(wù)。

讓我們2022年在中國材料大會再見。