国产精品视频一区二区三区四,亚洲av美洲av综合av,99国内精品久久久久久久,欧美电影一区二区三区电影

產(chǎn)品推薦:氣相|液相|光譜|質(zhì)譜|電化學(xué)|元素分析|水分測定儀|樣品前處理|試驗(yàn)機(jī)|培養(yǎng)箱


化工儀器網(wǎng)>技術(shù)中心>工作原理>正文

歡迎聯(lián)系我

有什么可以幫您? 在線咨詢

如何1分鐘完成厘米二維材料的載流子遷移率測量

來源:QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司   2021年12月02日 16:28  

引言

 

近年來, 石墨烯等二維材料與器件域的研究和開發(fā)取得了日新月異的進(jìn)展。隨著二維材料與器件研究和開發(fā)的深入, 研究人員越發(fā)清楚地認(rèn)識(shí)到, 二維材料中載流子的傳輸能力是影響其器件性能的個(gè)至關(guān)重要的因素。衡量二維材料載流子傳輸能力的主要參數(shù)是載流子遷移率μ, 它直接反映了載流子在電場作用下的運(yùn)動(dòng)能力, 因此載流子遷移率的測量直是石墨烯等二維材料與器件研究中的重要課題。

 

二維材料載流子遷移率的測量方法


迄今為止已有許多實(shí)驗(yàn)技術(shù)來測量二維材料的載流子遷移率,主要分為四大類, 是穩(wěn)態(tài)電流方法( 如穩(wěn)態(tài)直流J-V 法和場效應(yīng)晶體管方法),該方法是·簡單的種測量載流子遷移率的方法,可直接得到電流電壓性和器件的厚度等參數(shù)。二是瞬態(tài)電流方法,如瞬態(tài)電致發(fā)光、暗注入空間電荷限制電流和飛行時(shí)間( TOF) 方法等;三是微波傳導(dǎo)技術(shù), 如閃光光解時(shí)間分辨微波傳導(dǎo)技術(shù)和電壓調(diào)制毫米波譜;第四種是導(dǎo)納( 阻抗) 法。但上述實(shí)驗(yàn)方法仍存在些普遍性問題:1)樣品制備要求較高,需要繁雜的電制備;2)只能給出平均值,無法直觀的得到整個(gè)二維材料面內(nèi)的載流子遷移率的分布情況,無法對(duì)其均勻性進(jìn)行直觀表征;3)測量效率較低,無法滿足未來大面積樣品及工業(yè)化生產(chǎn)的需求。因此,我們亟需進(jìn)步化和開發(fā)新的實(shí)驗(yàn)技術(shù)來便捷快速的獲得載流子遷移率。

 

 

顛·覆性的二維材料載流子遷移率測量方法

 

西班牙Das Nano公司采用進(jìn)的脈沖太赫茲時(shí)域光譜·技術(shù)創(chuàng)新性的研發(fā)出了款針對(duì)大面積(8英寸wafer)石墨烯、半導(dǎo)體薄膜和其他二維材料全區(qū)域的太赫茲無損快速測量設(shè)備-ONYX[2,3],可在1 min之內(nèi)完成厘米樣品的載流子濃度測量?;诜瓷涫教掌潟r(shí)域光譜技術(shù)(THz-TDS)彌補(bǔ)了傳統(tǒng)接測量方法之間的不足和空白。實(shí)現(xiàn)了從科研到工業(yè)的大面積石墨烯及其他二維材料的無損和高分辨,快速的載流子遷移率測量,為石墨烯和二維材料科研和產(chǎn)業(yè)化研究提供了強(qiáng)大的支持。

 

 

近日,北京大學(xué)劉忠范院士團(tuán)隊(duì)通過自主設(shè)計(jì)研發(fā)的電磁感應(yīng)加熱石墨烯甚高溫生長設(shè)備,在 c 面藍(lán)寶石上在 30 分鐘內(nèi)就可以直接生長出了由取向高度致、大晶疇拼接而成的晶圓高質(zhì)量單層石墨烯。獲得的準(zhǔn)單晶石墨烯薄膜在晶圓尺寸范圍內(nèi)具有非常均勻的面電阻,而且數(shù)值較低,僅為~600 Ω/□,通過Das Nano公司的ONYX的載流子遷移率測量功能顯示當(dāng)分辨率為250 μm時(shí)遷移率依舊高于6,000 cm2 V–1 s–1,且具有很好的均勻性。這是迄今為止,常規(guī)緣襯底上直接生長石墨烯的好水平。文章以題為“Direct growth of wafer-scale highly-oriented graphene on sapphire”[4]發(fā)表在Science Advances上。

 

圖二、電阻及載流子遷移率測量結(jié)果

 

【參考文獻(xiàn)】

[1] Bardeen J, Shockley W. Deformation Potentials and Mobilities in Non-Polar Crystals[J]. Physical Review, 2008, 801:72-80

[2] Cultrera, A., Serazio, D., Zurutuza, A. et al. Mapping the conductivity of graphene with Electrical Resistance Tomography. Sci Rep 9, 10655 (2019).

[3] Melios, C., Huang, N., Callegaro, L. et al. Towards standardisation of contact and contactless electrical measurements of CVD graphene at the macro-, micro- and nano-scale. Sci Rep 10, 3223 (2020).

[4]Chen, Z., Xie, C., Wang, W. et al. Direct growth of wafer-scale highly-oriented graphene on sapphire. Sci. Adv. (2021).

 

相關(guān)產(chǎn)品:

1、石墨烯/二維材料電學(xué)性質(zhì)非接觸快速測量系統(tǒng)-ONYX

http://m.duoo135.com/st166724/product_33762952.html

 

免責(zé)聲明

  • 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
  • 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
  • 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
企業(yè)未開通此功能
詳詢客服 : 0571-87858618
昂仁县| 肃宁县| 丹东市| 镇安县| 和林格尔县| 广元市| 临海市| 阿合奇县| 通山县| 苗栗县| 太康县| 容城县| 万年县| 长顺县| 阿鲁科尔沁旗| 安宁市| 甘谷县| 普兰县| 垣曲县| 邯郸市| 尚义县| 含山县| 宝清县| 隆化县| 环江| 祁连县| 斗六市| 年辖:市辖区| 怀柔区| 武胜县| 云和县| 抚宁县| 绵竹市| 友谊县| 盐津县| 成武县| 南岸区| 石景山区| 大埔县| 达尔| 平邑县|