如何1分鐘完成厘米二維材料的載流子遷移率測量
引言
近年來, 石墨烯等二維材料與器件域的研究和開發(fā)取得了日新月異的進(jìn)展。隨著二維材料與器件研究和開發(fā)的深入, 研究人員越發(fā)清楚地認(rèn)識(shí)到, 二維材料中載流子的傳輸能力是影響其器件性能的個(gè)至關(guān)重要的因素。衡量二維材料載流子傳輸能力的主要參數(shù)是載流子遷移率μ, 它直接反映了載流子在電場作用下的運(yùn)動(dòng)能力, 因此載流子遷移率的測量直是石墨烯等二維材料與器件研究中的重要課題。
二維材料載流子遷移率的測量方法
迄今為止已有許多實(shí)驗(yàn)技術(shù)來測量二維材料的載流子遷移率,主要分為四大類, 是穩(wěn)態(tài)電流方法( 如穩(wěn)態(tài)直流J-V 法和場效應(yīng)晶體管方法),該方法是·簡單的種測量載流子遷移率的方法,可直接得到電流電壓性和器件的厚度等參數(shù)。二是瞬態(tài)電流方法,如瞬態(tài)電致發(fā)光、暗注入空間電荷限制電流和飛行時(shí)間( TOF) 方法等;三是微波傳導(dǎo)技術(shù), 如閃光光解時(shí)間分辨微波傳導(dǎo)技術(shù)和電壓調(diào)制毫米波譜;第四種是導(dǎo)納( 阻抗) 法。但上述實(shí)驗(yàn)方法仍存在些普遍性問題:1)樣品制備要求較高,需要繁雜的電制備;2)只能給出平均值,無法直觀的得到整個(gè)二維材料面內(nèi)的載流子遷移率的分布情況,無法對(duì)其均勻性進(jìn)行直觀表征;3)測量效率較低,無法滿足未來大面積樣品及工業(yè)化生產(chǎn)的需求。因此,我們亟需進(jìn)步化和開發(fā)新的實(shí)驗(yàn)技術(shù)來便捷快速的獲得載流子遷移率。
顛·覆性的二維材料載流子遷移率測量方法
西班牙Das Nano公司采用進(jìn)的脈沖太赫茲時(shí)域光譜·技術(shù)創(chuàng)新性的研發(fā)出了款針對(duì)大面積(8英寸wafer)石墨烯、半導(dǎo)體薄膜和其他二維材料全區(qū)域的太赫茲無損快速測量設(shè)備-ONYX[2,3],可在1 min之內(nèi)完成厘米樣品的載流子濃度測量?;诜瓷涫教掌潟r(shí)域光譜技術(shù)(THz-TDS)彌補(bǔ)了傳統(tǒng)接測量方法之間的不足和空白。實(shí)現(xiàn)了從科研到工業(yè)的大面積石墨烯及其他二維材料的無損和高分辨,快速的載流子遷移率測量,為石墨烯和二維材料科研和產(chǎn)業(yè)化研究提供了強(qiáng)大的支持。
近日,北京大學(xué)劉忠范院士團(tuán)隊(duì)通過自主設(shè)計(jì)研發(fā)的電磁感應(yīng)加熱石墨烯甚高溫生長設(shè)備,在 c 面藍(lán)寶石上在 30 分鐘內(nèi)就可以直接生長出了由取向高度致、大晶疇拼接而成的晶圓高質(zhì)量單層石墨烯。獲得的準(zhǔn)單晶石墨烯薄膜在晶圓尺寸范圍內(nèi)具有非常均勻的面電阻,而且數(shù)值較低,僅為~600 Ω/□,通過Das Nano公司的ONYX的載流子遷移率測量功能顯示當(dāng)分辨率為250 μm時(shí)遷移率依舊高于6,000 cm2 V–1 s–1,且具有很好的均勻性。這是迄今為止,常規(guī)緣襯底上直接生長石墨烯的好水平。文章以題為“Direct growth of wafer-scale highly-oriented graphene on sapphire”[4]發(fā)表在Science Advances上。
圖二、電阻及載流子遷移率測量結(jié)果
【參考文獻(xiàn)】
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[4]Chen, Z., Xie, C., Wang, W. et al. Direct growth of wafer-scale highly-oriented graphene on sapphire. Sci. Adv. (2021).
相關(guān)產(chǎn)品:
1、石墨烯/二維材料電學(xué)性質(zhì)非接觸快速測量系統(tǒng)-ONYX
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