有關磁控濺射鍍膜機的主要優(yōu)勢介紹

來源：科睿設備有限公司 2021年12月27日 14:40

磁控濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系?？慑兏鞣N硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。

　　磁控濺射鍍膜機主要優(yōu)勢：

　　1、實用性：

　　1.1、設備集成度高，結構緊湊，占地面積小，可以放置于實驗桌面上即可；

　　1.2、通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發(fā)功能的轉換，實現一機多用；

　　2、方便性：

　　2.1、設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔性；

　　2.2、設備可將主機置于手套箱內，水、電、氣等通過4個KF40接口接到手套箱外，與手套箱的對接靈活方便；

　　2.3、設備工作電壓為220V，整機功率小于2KW，對實驗室的供電要求低；

　　3、穩(wěn)定性：

　　3.1、設備主要零部件采用進口或國內品牌，保證了設備的質量及穩(wěn)定性；

　　磁控濺射鍍膜機設備安裝條件：

　　1、供電要求

　　1.1、設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；

　　1.2、插座距離設備尺寸≤2m；

　　1.3、其它：如用戶選配冷卻循環(huán)水機或其它選購件，用戶自行準備增配件的供電要求，不在安裝條件范圍內；

　　2、供水要求

　　2.1、設備需水冷的部件有磁控靶、膜厚儀探頭（如選配膜厚控制系統(tǒng)）；

　　2.2、水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃；

　　3、安裝場地大小要求

　　設備尺寸為：長×寬:L60cm×W60cm，建議安裝場地尺寸≥L60×W80cm。

相關產品

凡本網注明“來源：化工儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：化工儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
本網轉載并注明自其他來源（非化工儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內與本網聯系，否則視為放棄相關權利。

国产精品视频一区二区三区四,亚洲av美洲av综合av,99国内精品久久久久久久,欧美电影一区二区三区电影