HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV概述
專為VUV 測(cè)量設(shè)計(jì),整個(gè)系統(tǒng)處于真空狀態(tài),無(wú)氧氣吸收。具備高度準(zhǔn)確性;獨(dú)YI無(wú)二的超快測(cè)量速度;快速樣品室抽真空能力,方便快速更換樣品;氮?dú)庀牧可佟?/p>
重點(diǎn)應(yīng)用領(lǐng)域
超薄膜
157nm 光刻新材料
有機(jī)材料、高分子材料
高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
抗反射涂層
半導(dǎo)體和介電材料電子躍遷
MgF2、CaF2、LaF3
HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV特點(diǎn)
★ 50KHz 高頻PEM 相位調(diào)制技術(shù)
★ 45 秒內(nèi)完成充氮?dú)?/p>
★ 2 分鐘內(nèi)完成樣品室抽真空
★ 8 分鐘內(nèi)完成光譜全譜范圍內(nèi)測(cè)量
★ 兩種工作模式:氮?dú)馇逑唇Y(jié)合抽
★ 真空、連續(xù)氮?dú)馇逑?/p>
★ 光譜范圍:147nm~850nm;147nm~2100nm
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。