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如何優(yōu)化理論塔板數(shù)N

來源:月旭科技(上海)股份有限公司   2022年06月08日 13:30  

上一期跟大家分享了有關(guān)理論塔板數(shù)的定義和影響理論塔板數(shù)的因素,今天小編和大家繼續(xù)分享,如何來優(yōu)化理論塔板數(shù)。

先回顧下和理論塔板數(shù)相關(guān)的范德姆特方程:

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H表示理論塔板高度,v表示流動相的流速,A表示渦流擴散項,B/v表示縱向擴散項,C*v表示傳質(zhì)阻力項。

而N=(1/H)L,L是色譜柱的柱長。

 如何優(yōu)化理論塔板數(shù)? 

01

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色譜柱條件對分離的影響

調(diào)整選擇性以優(yōu)化色譜峰之間的間距和zui大化樣品的分離度之后,分離效果一般可令人滿意。然而,通過改變色譜柱的條件(柱長、流速、粒徑)也有可能進一步改善分離的效果,從而改變色譜柱的理論塔板數(shù)。

請注意,在等度洗脫的實驗里,如果僅僅改動色譜柱條件,那么相對保留行為和色譜柱之間相對間距(保留因子k和選擇性α的值)會保持不變;因此,不會破壞之前通過改變α而獲得的色譜峰間距的優(yōu)化結(jié)果。

N值的增加會引起分離度的提高,通常也意味著分離時間更長。相反,N值減小可以讓實驗時間縮短—— 在優(yōu)化選擇性之后,當(dāng)分離度Rs>2時,有益于實驗本身。

如果其他因素相同,N就應(yīng)該和柱長成正比,通常來說當(dāng)填充顆粒的粒徑減小或流動相流速減小N值都會增加。當(dāng)k值變化時,實驗時間和t0成正比,而t0與L/v成正比。因此,實驗時間會隨著柱長的增加而同比增加,或者隨流動相流速的減小而同比增加。同樣地,壓力P會隨著柱長或者流速的增加,或者填充顆粒粒徑的減小而增加。

所以,當(dāng)改變色譜柱條件來改善分離效果時,我們需要平衡好實驗時間、分離度和系統(tǒng)的壓力。

還有就是,如果改變色譜柱條件是為了提高分離度或者加快實驗速度,建議不要改變鍵合相,這是為了避免柱子選擇性出現(xiàn)變化。


02

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快速HPLC

假設(shè)我們可以獲得合適的儀器設(shè)備的柱子條件,分離時間取決于zui后一個峰的k值和分離度zui低的色譜峰對(“關(guān)鍵”)的α值。一旦“zui  jia”的k值和α值確定后(選擇性的優(yōu)化),分離度和分離時間就由N值決定了。有助于實現(xiàn)快速分離的條件包括較小的填充顆粒,較短的柱子和較高的流動相流速。

進一步縮短分離時間(要保證N值不能被減少)可以通過下面一個或多個辦法來實現(xiàn):

● 超高壓;

● 更高的溫度;

● 特殊設(shè)計的填充顆粒。

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高壓操作

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UHPLC可用于獲得更好的分離度或者縮短實驗操作時間。需要注意的是,當(dāng)柱壓超過34MPa的時候,某些之前認為的關(guān)系開始明顯不再成立。流動相的黏度隨著柱壓的增加而增大,因此壓力再也無法隨著流速的增加而同比增加。k值和α值也取決于系統(tǒng)壓力,因此就和柱子的條件相關(guān);這種情況在系統(tǒng)壓力比較低時就不明顯。

zui后需要注意的是,當(dāng)液體流經(jīng)一根填充的柱子時會產(chǎn)生熱量,這個熱量和貫穿整個柱子的壓力成正比。柱子里發(fā)生溫度改變可能會對峰形和理論塔板數(shù)產(chǎn)生負面的影響,以及進一步改變k值和α值。

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高溫實驗操作

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溫度越高,N值也會相應(yīng)增加。升高溫度的同時會導(dǎo)致流動相黏度降低和溶質(zhì)分子的擴散系數(shù)Dm增加。提高溫度,在理論上可以用來縮短實驗時間而同時保持N值不變,或者增加N值而保持實驗時間不變。高溫操作的優(yōu)勢也會被一些相應(yīng)的劣勢所抵消。所以溫度,通常是Nzui大值和αzui大值間的妥協(xié)。

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特殊設(shè)計的顆粒

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除了通常使用的全多孔顆粒之外,還有其它類型的柱子:薄殼型(pellicular)或者核殼型(表面多孔)顆粒填充的柱子整體柱。關(guān)于這些柱子,我們在其它推文中也有介紹。

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核殼色譜柱填料結(jié)構(gòu)

薄殼型和核殼型顆粒對于大分子的分離具有特別優(yōu)勢,對范德姆特方程方程中,傳質(zhì)阻力項Cv的貢獻減少了。薄殼型的色譜柱是以一層薄的多孔填料涂覆在實心的硅膠柱上構(gòu)成的,因此很容易發(fā)生超載,這使得它的使用局限在一些很小的樣品上(也就是進樣量必須要很?。?。

核殼型柱子的多孔填料層比薄殼型柱子的厚,這使得它們能夠承載幾乎和全多孔柱一樣多的樣品量。在其它實驗條件都相同的情況下,整體柱比顆粒柱更加具有滲透性,這就允許應(yīng)用更高的流速,并且也能實現(xiàn)快速分離。

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