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傳隨著電子通信行業(yè)的飛速發(fā)展,集成電路產(chǎn)業(yè)的需求呈現(xiàn)出爆炸式增長的趨勢,光刻技術(shù)已成為如今集成電路制造領(lǐng)域的核心技術(shù)。
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻系統(tǒng)通過以軟件設(shè)計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。不僅是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。
無掩膜光刻是從傳統(tǒng)光學(xué)光刻技術(shù)衍生出的一種新技術(shù)，因?yàn)槠淦毓獬上竦姆绞脚c傳統(tǒng)投影光刻基本相似，區(qū)別在于使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩膜，其主要原理是通過計算機(jī)將所需的光刻圖案通過軟件輸入到DMD芯片中，并根據(jù)圖像中的黑白像素的分布來改變DMD芯片微鏡的轉(zhuǎn)角，并通過準(zhǔn)直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面，并通過控制樣品臺的移動實(shí)現(xiàn)大面積的微結(jié)構(gòu)制備。
無掩膜光刻機(jī)應(yīng)用：
1、薄膜FET和霍爾效應(yīng)測量樣品的電極形成。
2、從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。
3、研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。
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