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連續(xù)結(jié)晶設(shè)備有什么是我們不知道的
結(jié)晶是化學(xué)反應(yīng)結(jié)束的后處理過程，如今企業(yè)為簡化操作流程、降低運行成本、提高生產(chǎn)效率、增加安全性，已逐步使用微通道反應(yīng)器、管式反應(yīng)器等連續(xù)化反應(yīng)設(shè)備來代替反應(yīng)釜等間歇設(shè)備，而與此相配套的后續(xù)處理設(shè)備也在向連續(xù)化操作靠攏。
連續(xù)結(jié)晶設(shè)備的結(jié)晶過程產(chǎn)量決定于結(jié)晶固體與其溶液之間的相平衡關(guān)系，通?？捎霉腆w在溶液中的溶解度來表示這種相平衡關(guān)系。在已有晶核形成或加入晶種的過飽和溶液中，以過飽和度為推動力晶核或晶種將長大。
晶體的生長由三個步驟組成：
1)帶結(jié)晶的溶質(zhì)經(jīng)擴散穿過晶體表面的一個靜止液層，從溶液中轉(zhuǎn)移到晶體表面。
2)到達晶體表面的溶質(zhì)長入晶面，使結(jié)晶長大，同時放出結(jié)晶熱。
3)放出來的結(jié)晶熱借傳導(dǎo)傳入溶液中。擴散過程中必須有濃度差作為推動力。第二步溶質(zhì)長入晶面的過程中不外乎要使溶質(zhì)分子或離子在空間晶格上排列而組成有規(guī)則的結(jié)垢。表面反應(yīng)的過程極為溶質(zhì)長入晶面的過程中借助另一部分的濃度差作為推動力。
連續(xù)結(jié)晶設(shè)備主體為根據(jù)流體計算后設(shè)計的外筒體和導(dǎo)流筒，配套專用螺旋漿實現(xiàn)了高效內(nèi)循環(huán)，而幾乎不出現(xiàn)二次晶核，根據(jù)冷卻結(jié)晶體的生長速率和晶體大小，設(shè)計降溫速度、攪拌槳轉(zhuǎn)速等指標(biāo)，各指標(biāo)動態(tài)可調(diào)易實現(xiàn)系統(tǒng)自控制，以適應(yīng)的結(jié)晶要求。
導(dǎo)流筒內(nèi)外壁拋光，減小物料在內(nèi)壁結(jié)疤現(xiàn)象；導(dǎo)流筒本身有高的換熱面,也可另設(shè)冷卻器；晶漿過飽和度均勻，粒度分布良好，實現(xiàn)了高效率；相對能耗低；下部安裝出料閥可實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)轉(zhuǎn)速低，變頻調(diào)控,適用性強,運行可靠，故障少。
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