晶閘管是晶體閘流管的簡稱，又被稱做可控硅整流器，以前被簡稱為可控硅；1957年美國通用電氣公司開發(fā)出第一款晶閘管產(chǎn)品，并于1958年將其商業(yè)化；晶閘管是PNPN四層半導體結構，它有三個極：陽極，陰極和控制極； 晶閘管具有硅整流器件的特性，能在高電壓、大電流條件下工作，且其工作過程可以控制、被廣泛應用于可控整流、交流調壓、無觸點電子開關、逆變及變頻等電子電路中。

當需要耐壓很高的開關時，單個晶閘管的耐壓有限，單個晶閘管無法滿足耐壓需求，這時就需要將多個晶閘管串聯(lián)起來使用，從而得到滿足條件的開關。

在器件的應用中，由于各個元件的靜態(tài)伏安特性和動態(tài)參數(shù)不同，因此將引起各元件間電壓分配不均勻而導致發(fā)生損壞器件的事故。影響串聯(lián)運行電壓分配不均勻的因素主要有以下幾個：

1、靜態(tài)伏安特性對靜態(tài)均壓的影響。不同元件的伏安特性差異較大，串聯(lián)使用時會使電壓分配不均衡。同時，半導體器件的伏安特性容易受溫度的影響，不同的結溫也會使均壓性能受到影響。

2、關斷電荷和開通時間等動態(tài)特性對動態(tài)均壓的影響。晶閘管串聯(lián)運行，延遲時間不同，門極觸發(fā)脈沖的大小不同，都會導致閥片的開通適度不同。閥片的開通速度不同，會引起動態(tài)電壓的不均衡。同時關斷時間的差異也會造成各晶閘管不同時關斷的現(xiàn)象。關斷電荷少，則易關斷，關斷時間也短，先關斷的元件必然承受最高的動態(tài)電壓。

晶閘管串聯(lián)技術的根本目的的是保證動、靜態(tài)特性不同的晶閘管在串聯(lián)后能夠安全穩(wěn)定運行且都得到充分的利用。這就涉及到串聯(lián)晶閘管的元件保護、動態(tài)和靜態(tài)均壓、觸發(fā)一致性、反向恢復過電壓的抑制、開通關斷緩沖等一系列問題。