等離子清洗機表面處理設備具有成本低、無廢棄物、無污染等顯著優(yōu)點,同時可以得到傳統(tǒng)的化學方法難以達到的處理效果;目前低溫等離子清洗機表面處理設備被廣泛應用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫滅菌及污染治理等多種領域。
等離子清洗機IC半導體行業(yè)清洗活化能,去除表面膠渣提高流動增強灌膠均勻性結合性
等離子清洗機適用于對原料和半成品每一步可能存在的雜質(zhì)進行清洗,以避免雜質(zhì)影響產(chǎn)品的質(zhì)量和下游產(chǎn)品的性能,等離子清洗設備對于單晶硅的生產(chǎn)、光刻、刻蝕、沉積等關鍵工藝以及封裝工藝中的使用都是不可少的。
在半導體器件的生產(chǎn)過程中,受材料、工藝以及環(huán)境的影響,晶圓芯片表面會存在肉眼看不到的各種微粒、有機物、氧化物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質(zhì),而等離子清洗機是非常適合的工藝方法。在不破壞晶圓芯片及其他所用材料的表面特性、熱學特性和電學特性的前提下,清洗去除晶圓芯片表面的有害沾污雜質(zhì)物,對半導體器件功能性、可靠性、集成度等顯得尤為重要
等離子清洗機并不會破壞被處理的材料或者產(chǎn)品的固有特性,發(fā)生改變的僅僅是表面納米級的厚度,被清洗的材料或產(chǎn)品表面污染物被去除,分子鍵打開后極其微小的結構變化,形成一定的粗糙度或者是在表面產(chǎn)生親水性的官能基,使得金屬焊接的可靠性增強、不同材料之間的結合力提高等,從而提高產(chǎn)品的信賴度、穩(wěn)定性,延長產(chǎn)品的使用壽命。
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,應在授權范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關權利。