帶有集成靜電中和技術的分析天平可以解決靜電煩惱,并確保各種分析稱重應用的準確性,是一種緊湊且有效的解決方案。Cubis® II 分析天平和半微量天平集成了電荷中和技術,以實現(xiàn)準確的稱量性能。
靜電荷是如何形成的
電子逸出功是指一個電子離開金屬表面所需的能量。兩個物體之間的摩擦會引發(fā)離子形成,因此電子逸出功較低的物質很容易給電子逸出功較高的物質提供電子。在稱重過程中,樣品內(nèi)部或樣品與容器或皮重容器之間存在摩擦,會產(chǎn)生靜電。
靜電荷對分析稱重的影響
待稱重物質與天平固定部位相互作用,因該部位與稱重盤(包括通風罩或底板)沒有導電連接,所以導致物質表面電荷積聚,進而產(chǎn)生靜電力。這些靜電力可能會產(chǎn)生虛假絕對重量(即與實際重量顯著偏離),并影響稱重精度。當電荷通過稱量盤消散時,靜電力的變化會導致漂移,從而產(chǎn)生不一致的結果并降低重復性。
靜電中和技術
賽多利斯 Cubis® II 采用了集成的電荷中和技術,可有效去除樣品和容器中的電荷,從而實現(xiàn)更精確的分析稱重。
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