Holmarc 的紫外激光刻寫系統(tǒng)是一種直接刻寫光刻系統(tǒng)，用于在涂有光刻膠層的基片上刻寫微幾何特征。這套無掩膜系統(tǒng)配備了強(qiáng)度可調(diào)的光纖耦合 405nm 激光器和伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)的高精度 XY 平臺(tái)，并配有數(shù)控軟件，可書寫復(fù)雜的圖案。四倍電動(dòng)轉(zhuǎn)塔配有不同的物鏡，可在聚焦點(diǎn)形成不同的光斑尺寸。配備了一個(gè)帶黃色 LED 照明的 300 萬像素?cái)z像頭，用于聚焦樣品，以獲得最佳特征尺寸。用戶友好型軟件用于樣品基底的初始設(shè)置，數(shù)控軟件用于根據(jù) dxf 繪圖文件繪制圖案。

                                                                                                    規(guī)格

  激光器：405 納米光纖耦合激光器

    聚焦模式 ：    基于顯微鏡物鏡

    光斑直徑：<10 微米（取決于物鏡放大倍率）

    強(qiáng)度：樣品位置處為 3mW

    聚焦：電動(dòng)，軟件控制

    電動(dòng) XY-Theta 樣品平臺(tái)

    XY 行程：100 毫米 x 100 毫米

    XY 分辨率：1 微米

    單向重復(fù)性：3 微米

    定位精度：5 微米

    Theta 平臺(tái)分辨率：0.1 度

    重復(fù)性：0.1 度

    定位精度：0.1 度

    真空樣品夾頭

    鼻模 ：    四軸，電動(dòng)，軟件控制

    軟件 ：    Mach3 CNC 軟件

    顯微鏡目標(biāo)

    1. Infinity Plan 消色差 60X 物鏡

    N A : 0.75

    工作距離： 1.22 毫米

    2. Infinity Plan 100 倍消色差物鏡

    N A : 0.85

    工作距離：0.4 毫米