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氫氧化鉀濃度對(duì)洗脫時(shí)間的影響 (2) (SI-36 4D)

來(lái)源:力森諾科科學(xué)儀器(上海)有限公司   2025年02月17日 16:15  
 此色譜柱請(qǐng)配合使用抑制器法離子色譜系統(tǒng)。

下圖是使用陰離子分析用色譜柱IC SI-36 4D分析各陰離子,流動(dòng)相氫氧化鉀濃度和洗脫時(shí)間的關(guān)系。降低流動(dòng)相氫氧化鉀濃度會(huì)增強(qiáng)對(duì)樣品的保留,特別是對(duì)于硫酸根離子而言,洗脫位置會(huì)發(fā)生很大變化。雖然氫氧化鉀水溶液的標(biāo)準(zhǔn)濃度為25 mM,但是當(dāng)同時(shí)分離標(biāo)準(zhǔn)陰離子和鹵素氧化物時(shí),可以通過(guò)降低洗脫液濃度來(lái)改善分離。


Sample : 25 μL
1. F- 0.5 mg/L
2. ClO2- 5 mg/L
3. BrO3- 5 mg/L
4. Cl- 3 mg/L
5. NO2- 5 mg/L
6. SO42- 10 mg/L
7. ClO3- 5 mg/L
8. Br- 10 mg/L
9. NO3- 10 mg/L

Column       : Shodex IC SI-36 4D (4.0 mm I.D. x 150 mm)
Eluent       : 15, 18, 20, 22, 25 mM KOH aq.
               (Eluent source : DionexTM EGC 500 KOH)           
Flow rate    : 0.7 mL/min
Detector     : Suppressed conductivity
Column temp. : 30 ℃

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