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NIKKATO日陶高真空熱處理設(shè)備

來源:納加霍里科技(上海)有限公司   2025年06月14日 17:16  

 NIKKATO日陶高真空熱處理設(shè)備

 NIKKATO日 的高真空熱處理設(shè)備具有以下特點和應(yīng)用場景?:

該設(shè)備可以在高真空環(huán)境下進行熱處理,真空度可達10^-5帕。使用碳/金屬加熱器,由于在反射器結(jié)構(gòu)中不使用絕緣體,因此可以獲得高溫、清潔的氣氛。其標準規(guī)格如下:

  • ?使用溫度?:2000℃

  • ?有效尺寸?:φ800×L500mm

  • ?真空度?:10^-5帕

  • ?氣氛?:真空、減少、NH3等?。

此外,NIKKATO日陶還提供其他類型的熱處理設(shè)備,包括:

  • ?精密退火熱處理設(shè)備?:使用溫度為1000℃,有效尺寸為W1000×D1000×H250mm,適用于浸泡處理,氣氛可選空氣中或惰性氣體?。

  • ?高壓熱處理設(shè)備?:可在高溫(最高1600℃)和高壓(最高9.9MPa)下進行熱處理,爐內(nèi)尺寸為φ100×H100mm?。

  • ?超高溫氧化氣氛熱處理設(shè)備?:使用溫度可達1800℃,適用于還原氣氛、惰性氣氛等特殊氣氛處理?

這些設(shè)備廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)和實驗室場景,如高溫物性測定、金屬溶解熔融等?



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