銦鎵砷InGaAs相機(jī)量子效率QE解析及其在VCSEL氧化孔徑檢測中的應(yīng)用價(jià)值
在VCSEL(垂直腔面發(fā)射激光器)的研發(fā)與生產(chǎn)中,氧化孔徑的測量對器件的光束質(zhì)量、功率效率和可靠性具有重要影響。不同波段的VCSEL對氧化層形貌存在特定要求,蘇州卡斯圖MIR100近紅外顯微鏡憑借其成像分辨率和多波段適配能力,成為行業(yè)常用的檢測設(shè)備。以下將分析各波段VCSEL的特點(diǎn)及對應(yīng)的氧化孔徑檢測方案。
1. 近紅外波段(700-1100 nm)檢測方案
(1)808 nm VCSEL:特殊應(yīng)用與泵浦激光的檢測
808 nm VCSEL應(yīng)用于特殊美容設(shè)備和固體激光器泵浦源,其GaAs/AlGaAs量子阱結(jié)構(gòu)對氧化層均勻性要求較高。使用近紅外顯微鏡觀察氧化孔徑形貌時(shí),需要關(guān)注邊緣銳利度和厚度一致性。MIR100顯微鏡的5μm成像分辨率能清晰呈現(xiàn)AlGaAs氧化層結(jié)構(gòu),保證激光器的工作穩(wěn)定性。
在激光設(shè)備制造中,通過VCSEL氧化層質(zhì)量控制可以提升光斑均勻性。MIR100支持明暗場切換觀察,適用于808nm激光器的氧化孔徑測量和缺陷分析。
(2)850 nm VCSEL:數(shù)據(jù)傳輸光模塊的檢測
作為多模光纖通信的主要光源,850nm VCSEL的氧化孔徑關(guān)系著光模塊的耦合效率。在400G SR8光模塊生產(chǎn)中,需要控制氧化層的直徑公差和圓度誤差。MIR100搭配InGaAs相機(jī),可實(shí)現(xiàn)對數(shù)據(jù)傳輸VCSEL的批量檢測,提升3D傳感和光通信器件的良品率。
針對850nm VCSEL陣列,MIR100的12MP成像能定位氧化層缺陷,保證每顆激光器都達(dá)到光束質(zhì)量要求。
(3)905 nm VCSEL:自動駕駛LiDAR的檢測
905nm波長因其良好性價(jià)比成為車載LiDAR的主要選擇。在激光雷達(dá)應(yīng)用中,氧化孔徑的均勻性影響著測距精度。MIR100近紅外顯微鏡可對LiDAR VCSEL進(jìn)行檢測,通過成像分析氧化層形貌,優(yōu)化光束發(fā)散角。
(4)940 nm VCSEL:消費(fèi)電子3D傳感的檢測
智能手機(jī)Face ID和無人機(jī)避障系統(tǒng)多采用940nm VCSEL陣列。這類消費(fèi)電子應(yīng)用對成本要求嚴(yán)格,需要批量檢測方案。MIR100支持自動化掃描,可完成數(shù)千顆VCSEL的氧化孔徑測量,保證陣列一致性。
在3D結(jié)構(gòu)光模組檢測中,MIR100的設(shè)計(jì)能分析940nm VCSEL的氧化層特性,改善人臉識別效果。
(5)980 nm VCSEL:高功率應(yīng)用的檢測
980nm VCSEL常用于光纖放大器和特殊激光設(shè)備。MIR100的成像功能可測量氧化孔徑尺寸,為高功率器件的設(shè)計(jì)提供數(shù)據(jù)支持。
在EDFA泵浦源制造中,通過980nm VCSEL氧化孔徑的控制,能夠提升光纖耦合效率。
2. 短波紅外(11002500 nm)檢測方案
(1)1310/1550 nm VCSEL:通信與LiDAR的檢測
InP基1310/1550nm VCSEL是長距通信和車規(guī)級LiDAR的主要器件。這類材料的氧化工藝較為復(fù)雜,傳統(tǒng)顯微鏡較難清晰成像。MIR100采用透射式光學(xué)設(shè)計(jì),配合SWIR相機(jī)可測量深氧化層結(jié)構(gòu)。
在1550nm激光雷達(dá)應(yīng)用中,MIR100的成像功能能評估氧化孔徑形貌,保證符合車規(guī)級標(biāo)準(zhǔn)。
(2)1350-1650 nm VCSEL:氣體分析的檢測
用于甲烷等氣體分析的VCSEL對氧化孔徑尺寸要求較高。MIR100的測量模塊可分析1650nm VCSEL的氧化層均勻性,優(yōu)化氣體分析效果。在環(huán)境監(jiān)測設(shè)備制造中,這種檢測能保證傳感模塊的穩(wěn)定性。
3. 特殊材料檢測
銻化物(GaSb)等特殊材料的VCSEL檢測存在一定難度。MIR100通過光學(xué)配置,可支持各類特殊材料VCSEL的氧化工藝分析。
蘇州卡斯圖MIR100主要特點(diǎn)
1.波段覆蓋:700-1650nm可調(diào),適配各類VCSEL材料體系
2.分析功能:測量氧化孔徑直徑、圓度、均勻性等參數(shù)
3.產(chǎn)線適用:防震設(shè)計(jì)支持晶圓級檢測,提高生產(chǎn)效率
4.成像分辨率:0.5μm,滿足測量需求
應(yīng)用實(shí)例
某LiDAR廠商采用MIR100優(yōu)化905nm VCSEL氧化工藝,光束質(zhì)量改善30%
光模塊企業(yè)通過1550nm VCSEL檢測,通信器件良品率達(dá)到99.2%
特殊激光設(shè)備制造商使用檢測功能,808nm VCSEL性能得到提升
檢測方案選擇
研發(fā)階段:選擇0.5μm分辨率模式進(jìn)行工藝開發(fā)
小批量試產(chǎn):配置半自動檢測模塊
大規(guī)模量產(chǎn):選用全自動晶圓檢測系統(tǒng)
MIR100近紅外顯微鏡為VCSEL制造提供檢測方案,從研發(fā)到量產(chǎn)提供支持。如需獲取定制檢測方案,歡迎聯(lián)系我們的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。
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