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fei透射電鏡分析對(duì)材料局部力學(xué)性質(zhì)的精準(zhǔn)測(cè)量

來(lái)源:賽默飛電子顯微鏡   2025年08月11日 11:32  
 

fei透射電鏡分析對(duì)材料局部力學(xué)性質(zhì)的精準(zhǔn)測(cè)量??

??1. 技術(shù)背景與需求??

fei透射電鏡分析雖能提供原子級(jí)結(jié)構(gòu)信息,但受限于 ??樣品超薄要求(<100 nm)?? 和 ??真空環(huán)境??,難以直接測(cè)量材料的 ??局部力學(xué)性能??(如彈性模量、硬度、斷裂韌性)。非TEM技術(shù)通過(guò) ??多物理場(chǎng)耦合?? 和 ??原位加載??,這一空白。


??
2. 核心測(cè)量技術(shù)與原理?
?

??(1)納米壓痕技術(shù)(Nanoindentation)??
  • ??原理??:
    • 金剛石壓頭(Berkovich或球形)以納米級(jí)位移(nm級(jí))壓入材料表面,同步記錄 ??載荷-位移曲線??。
    • 通過(guò) ??Oliver-Pharr模型?? 計(jì)算彈性模量(E)和硬度(H)。
  • ??優(yōu)勢(shì)??:
    • 空間分辨率 ??~100 nm??,可測(cè)薄膜、涂層、晶界等微區(qū)力學(xué)性能。
    • 支持高溫(800°C)和原位觀察(如SEM聯(lián)用)。
??(2)原子力顯微鏡-力學(xué)模式(AFM-based Nanomechanics)??
  • ??原理??:
    • ??峰值力定量納米力學(xué)映射(PF-QNM)??:探針在掃描中周期性觸碰樣品,實(shí)時(shí)提取 ??彈性模量、粘附力、耗散能??。
    • ??力-距離曲線(FDC)??:?jiǎn)吸c(diǎn)高精度力學(xué)測(cè)量(分辨率~1 nN)。
  • ??優(yōu)勢(shì)??:
    • 可測(cè)軟材料(水凝膠、細(xì)胞)和二維材料(石墨烯)的力學(xué)各向異性。
??(3)微柱壓縮/拉伸測(cè)試(Micropillar Compression/Tensile Testing)??
  • ??原理??:
    • 聚焦離子束(FIB)雕刻微米級(jí)柱狀或薄膜樣品,通過(guò) ??原位SEM?? 或 ??光學(xué)平臺(tái)?? 施加壓縮/拉伸載荷。
    • 結(jié)合數(shù)字圖像相關(guān)(DIC)分析應(yīng)變場(chǎng)。
  • ??優(yōu)勢(shì)??:
    • 揭示單晶或納米結(jié)構(gòu)材料的 ??尺寸效應(yīng)??(如“越小越強(qiáng)”現(xiàn)象)。
??(4)布里淵光散射(Brillouin Light Scattering, BLS)??
  • ??原理??:
    • 激光激發(fā)材料表面聲子振動(dòng),通過(guò)散射光頻移反推 ??彈性常數(shù)??(空間分辨率~300 nm)。
  • ??優(yōu)勢(shì)??:
    • 無(wú)損測(cè)量透明或光學(xué)材料(如玻璃、鈣鈦礦薄膜)的彈性性能。

??3. 與TEM技術(shù)的互補(bǔ)性對(duì)比??

??技術(shù)?? ??測(cè)量參數(shù)?? ??空間分辨率?? ??樣品要求?? ??優(yōu)勢(shì)(相比TEM)??
??納米壓痕?? E, H, 斷裂韌性 100 nm 塊體/薄膜 無(wú)需制樣,支持高溫/原位
??AFM力學(xué)模式?? E, 粘附力, 耗散能 1 nm(形貌) 表面平整 可測(cè)軟材料與生物樣品
??微柱壓縮/拉伸?? 屈服強(qiáng)度, 塑性變形 1–10 μm FIB加工微柱 直接獲取應(yīng)力-應(yīng)變曲線
??布里淵光散射?? 彈性常數(shù) 300 nm 光學(xué)透明/半透明 無(wú)損、非接觸
??(1)TEM的局限性??
  • ??無(wú)法直接測(cè)量力學(xué)參數(shù)??:僅能通過(guò)原位TEM觀察變形過(guò)程,但難以量化應(yīng)力/應(yīng)變。
  • ??樣品代表性不足??:超薄樣品可能忽略體材料力學(xué)行為(如位錯(cuò)三維運(yùn)動(dòng))。
??(2)fei透射電鏡分析技術(shù)的不可替代性??
  • ??多尺度覆蓋??:從納米壓痕(微區(qū))到微柱測(cè)試(介觀)。
  • ??環(huán)境適應(yīng)性??:支持液體(AFM)、高溫(納米壓痕)、大氣(BLS)等復(fù)雜條件。

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