一、稅收優(yōu)惠

　　對內(nèi)外資研發(fā)機構(gòu)采購用于研發(fā)、教學(xué)的國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅。

　　二、適用研發(fā)機構(gòu)

　　1、財政部44號令規(guī)定的機構(gòu)

　?。?）科技部會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的科技體制改革過程中轉(zhuǎn)制為企業(yè)和進(jìn)入企業(yè)的主要從事科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)工作的機構(gòu)；

　?。?）國家發(fā)展和改革委員會會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的國家工程研究中心；

　?。?）國家發(fā)展和改革委員會會同財政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局和科技部核定的企業(yè)技術(shù)中心；

　?。?）科技部會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的國家重點實驗室和國家工程技術(shù)研究中心；

　　（5）財政部會同國務(wù)院有關(guān)部門核定的其他科學(xué)研究、技術(shù)開發(fā)機構(gòu)。

　　2、財政部45號令規(guī)定的機構(gòu)

　?。?）國務(wù)院部委、直屬機構(gòu)和省、自治區(qū)、直轄市、計劃單列市所屬專門從事科學(xué)研究工作的各類科研院所；

　?。?）國家承認(rèn)學(xué)歷的實施?？萍耙陨细叩葘W(xué)歷教育的高等學(xué)校；

　?。?）財政部會同國務(wù)院有關(guān)部門核定的其他科學(xué)研究機構(gòu)和學(xué)校。

　　3、財稅（2009）115號文規(guī)定的外資研發(fā)中心

　?。?）對2009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：

　　A.研發(fā)費用標(biāo)準(zhǔn)：（1）對新設(shè)立不足兩年的外資研發(fā)中心，作為獨立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于500萬美元；（2）對設(shè)立兩年及以上的外資研發(fā)中心，企業(yè)研發(fā)經(jīng)費年支出額不低于l000萬元。

　　B.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于90人。

　　C.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于1000萬元。

　?。?）對2009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：

　　A.研發(fā)費用標(biāo)準(zhǔn)：作為獨立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于800萬美元。

　　B.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于150人。

　　C.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于2000萬元。

　　具體審核辦法由商務(wù)部會同財政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局另行制定。

　　三、適用設(shè)備清單范圍

　　1、實驗環(huán)境方面

　　（1）教學(xué)實驗儀器及裝置；

　?。?）教學(xué)示教、演示儀器及裝置；

　?。?）超凈設(shè)備（如換氣、滅菌、純水、凈化設(shè)備等）；

　　（4）特殊實驗環(huán)境設(shè)備（如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設(shè)備等）；

　?。?）特殊電源、光源（如電極、開關(guān)、線圈、各種光源等）；

　?。?）清洗循環(huán)設(shè)備；

　?。?）恒溫設(shè)備（如水浴、恒溫箱、滅菌儀等）；

　　（8）小型粉碎、研磨制備設(shè)備。

　　2、樣品制備設(shè)備和裝置

　　（1）特種泵類（如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等）；
　　
　　（2）培養(yǎng)設(shè)備（如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等）；

　?。?）微量取樣設(shè)備（如移液管、取樣器、精密天平等）；

　　（4）分離、純化、濃縮設(shè)備（如離心機、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等）；

　?。?）氣體、液體、固體混合設(shè)備（如旋渦混合器等）：

　?。?）制氣設(shè)備、氣體壓縮設(shè)備：

　?。?）制樣設(shè)備（如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等），實驗用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備：實驗室樣品前處理設(shè)備；

　?。?）實驗室小器具（如分配器、量具、循環(huán)器、清洗器、工具等）。

　　3、實驗室設(shè)備

　　（1）特殊照相和攝影設(shè)備（如水下、高空、高溫、低溫等）；

　　（2）科研飛機、船舶用關(guān)鍵設(shè)備和部件：

　?。?）特種數(shù)據(jù)記錄設(shè)備及材料（如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤機等）：

　?。?）特殊電子部件（如電路板、特種晶體管、集成電路等）：

　?。?）材料科學(xué)設(shè)備（如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用于板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機，材料實驗機等），可靠性試驗設(shè)備，微電子加工設(shè)備，通信模擬仿真設(shè)備，通信環(huán)境試驗設(shè)備；

　　（6）小型熔煉設(shè)備（如真空、粉末、電渣等），特殊焊接設(shè)備；

　?。?）小型染整、紡絲試驗設(shè)備；

　?。?）電生理設(shè)備。

　　四、申報流程

　　1、享受采購國產(chǎn)設(shè)備退稅的研發(fā)機構(gòu)，應(yīng)在申請辦理退稅前持以下資料向主管退稅稅務(wù)機關(guān)申請辦理采購國產(chǎn)設(shè)備的退稅認(rèn)定手續(xù)。

　?。?）企業(yè)法人營業(yè)執(zhí)照副本或組織機構(gòu)代碼證（原件及復(fù)印件）；

　?。?）稅務(wù)登記證副本（原件及復(fù)印件）；

　?。?）退稅賬戶證明；

　　（4）稅務(wù)機關(guān)要求提供的其他資料。

　　本辦法下發(fā)前已辦理出口退稅認(rèn)定手續(xù)的，不再辦理采購國產(chǎn)設(shè)備的退稅認(rèn)定手續(xù)。

　　2、屬于增值稅一般納稅人的研發(fā)機構(gòu)購進(jìn)國產(chǎn)設(shè)備取得的增值稅發(fā)票，應(yīng)在規(guī)定的認(rèn)證期限內(nèi)辦理認(rèn)證手續(xù)。2009年12月31日前開具的增值稅發(fā)票，其認(rèn)證期限為90日；2010年1月1日后開具的增值稅發(fā)票，其認(rèn)證期限為180日。未認(rèn)證或認(rèn)證未通過的一律不得申報退稅。

　　3、研發(fā)機構(gòu)應(yīng)自購買國產(chǎn)設(shè)備取得的增值稅發(fā)票開票之日起180日內(nèi)，向其主管退稅稅務(wù)機關(guān)報送《研發(fā)機構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備退稅申報審核審批表》（見附件）及電子數(shù)據(jù)申請退稅，同時附送以下資料：

　?。?）采購國產(chǎn)設(shè)備合同；

　?。?）增值稅發(fā)票（抵扣聯(lián)）；

　　（3）付款憑證；

　　（4）稅務(wù)機關(guān)要求提供的其他資料。

　　不屬于獨立法人的公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的外資研發(fā)中心采購國產(chǎn)設(shè)備，由總公司向其主管退稅稅務(wù)機關(guān)申請退稅。

　　4、采購國產(chǎn)設(shè)備的應(yīng)退稅額，按照增值稅發(fā)票上注明的稅額確定。凡企業(yè)未全額支付所購設(shè)備貨款的，按照已付款比例和增值稅發(fā)票上注明的稅額確定應(yīng)退稅款；未付款部分的相應(yīng)稅款，待企業(yè)實際支付貨款后再予退稅。

　　5、主管退稅稅務(wù)機關(guān)對已辦理退稅的增值稅發(fā)票應(yīng)加蓋“已申報退稅”章，留存或退還企業(yè)并按規(guī)定保存，企業(yè)不得再作為進(jìn)項稅額抵扣憑證。

　　6、研發(fā)機構(gòu)已退稅的國產(chǎn)設(shè)備，由主管退稅稅務(wù)機關(guān)進(jìn)行監(jiān)管，監(jiān)管期為5年。監(jiān)管期內(nèi)發(fā)生設(shè)備所有權(quán)轉(zhuǎn)移行為或移作他用等行為的，研發(fā)機構(gòu)須按以下計算公式，向主管退稅稅務(wù)機關(guān)補繳已退稅款。

　　應(yīng)補稅款=增值稅發(fā)票上注明的金額×（設(shè)備折余價值÷設(shè)備原值）×適用增值稅稅率

　　設(shè)備折余價值=設(shè)備原值-累計已提折舊
　　
　　設(shè)備原值和已提折舊按企業(yè)會計核算數(shù)據(jù)計算。