電位滴定法測定電渡槽液中的Cu2+含量

來源：瑞士萬通中國有限公司 2014年09月05日 15:07

應用領域：電鍍

用戶信息：甘肅金川科技

關鍵詞： 905，電位滴定法，電鍍槽液，Cu2+

樣品：鎳電渡槽液，墨綠色透明液體

設備和附件：

905 Titrando, 801 Stirrer, 800 Dosino

6.0431.100 Pt Titrode

樣品處理：

c(Na2S2O3) = 0.1mol/L

c(H2SO4) = 2mol/L

輔助溶液: w(KI)=10% plus w(KCNS)=20%

樣品分析：

在滴定杯中倒入50mL 樣品，加入10mL H2SO4 溶液和5mL 輔助溶液，

等一小段時間后，以Na2S2O3 滴定所得溶液，以Pt Titrode 為指示電

極。*個等當點對應Cu2+含量。

分析結果：

Sample1：0.4343 g/L , 0.4344 g/L RSD=0.02%

Sample2：0.4299 g/L， 0.4303 g/L RSD=0.07%

Sample3：0.4365 g/L， 0.4371 g/L RSD=0.10%

Sample4：0.4456 g/L， 0.4452 g/L RSD=0.06%

Sample5：0.4359 g/L， 0.4370 g/L， 0.4362 g/L RSD=0.13%

0.5 g/L Cu2+標準溶液：0.4958 g/L

備注：無

典型譜圖：

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