兩年一度的戴安公司離子色譜用戶會將于2010年9月6日至7日在美麗的海濱城市青島舉行，本次用戶會將與第十三屆全國離子色譜學術報告會聯(lián)合舉辦（9月6日戴安用戶會報到，9月7日戴安用戶會，9月8-10日色譜學術報告會），會議正值“2010戴安中國年”科技活動期間，這次活動將包括：學術交流、戴安新技術講座、戴安應用支持及產品維護用戶見面會、參觀等豐富多彩的活動。活動還將向所有戴安用戶征集“我與戴安同行”照片，歡迎廣大用戶踴躍提供。

　　有關會議說明如下：

戴安公司離子色譜用戶會與第十三屆全國離子色譜學術報告會同期舉行，用戶會比學術報告會提前一天報到并組織活動；

戴安公司的離子色譜用戶會不收會議費用，交通住宿費用自理。同時參加第十三屆全國離子色譜學術報告會的用戶請按照學術報告會通知交納費用（在用戶會報到的同時辦理學術會報到手續(xù)）,如需要第十三屆全國離子色譜學術報告會具體通知請與戴安市場部。

戴安公司誠邀您積極準備技術文章參與學術報告會的技術交流活動，有關征文的內容要求見本通知；技術文章登入大會論文集，如需要在大會上做報告，請在下面回執(zhí)中說明。

用戶會是戴安離子色譜用戶相互認識、相互交流的好機會，沒有論文提供的用戶也歡迎參加此次活動。

對提供給學術報告會的論文除刊登在大會論文集上外如希望在技術刊物上發(fā)表，戴安公司將提供幫助及資助，具體辦法請咨詢戴安市場部。

會議地址：山東省青島市青島氣象度假村，詳見附件一

　　關學術會征文的要求如下：

　　征文內容：凡與離子色譜有關的分離和檢測技術以及離子色譜在各個領域的應用均為征文范圍。已在刊物上發(fā)表、在全國或會議上報告過的論文不在應征之列。

　　主要議題：

離子色譜分離和檢測新方法。
離子色譜與質譜，等離子體發(fā)射光譜等的聯(lián)用技術。
離子色譜的前處理及預濃縮技術；超痕量分析技術。
離子色譜在不同領域的應用，如環(huán)境、生物、食品、藥物、能源以及電子和化學工業(yè)等。

截稿日期：2010年8月25日前

論文請用郵件或其他方式交給戴安公司市場部（training@dionex.com.cn；yuexiwei@dionex.com.cn；wangqiong@dionex.com.cn）

　有關“我與戴安同行”照片征集要求如下：

　　2010年戴安中國有限公司將走過第十個年頭，十年來公司的快速發(fā)展離不開廣大用戶的支持，我們舉辦這個“我與戴安同行”的照片征集活動， 旨在了解用戶，展示風采，征集的照片在這次活動中將有一次*機會，希望您能積極參與。

照片內容為使用者與戴安儀器的合影
照片請注明“xxx單位，姓名，儀器名稱及型號”
照片以電子版方式發(fā)送到市場部，或在簽到時攜帶U盤或者光盤（注意留下）。

請按照下面回執(zhí)中的或者郵寄地址來投送照片。