摘要：

該研究的詳細(xì)情況發(fā)表在《應(yīng)用光學(xué)》2012 年 1 月 10 日號（總第 51 卷，第二期）上。

測定薄膜和多層鍍膜的光學(xué)參數(shù)（使用光學(xué)鍍膜的逆向工程）對于生產(chǎn)高質(zhì)量的產(chǎn)品至關(guān)重要。這些數(shù)據(jù)可以給設(shè)計和生產(chǎn)環(huán)節(jié)提供反饋。對每一層依次進(jìn)行評估后得到的逆向工程結(jié)果可以用來調(diào)整沉積參數(shù)，重校監(jiān)測系統(tǒng)，改善對各層的厚度控制。

通常是使用紫外-可見-近紅外 (UV-Vis-NIR) 或傅里葉變換紅外 (FTIR) 分光光度法進(jìn)行光學(xué)表征，對透明基板上的薄膜樣品垂直入射或接近垂直入射時的透射率 (T)和/或反射率 (R) 的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。然而，基于垂直入射的透射率和反射率測量的光學(xué)表征以及基于垂直或接近垂直入射的透射率和反射率測量數(shù)據(jù)的可靠的逆向工程仍然十分困難。

摘要：

該研究的詳細(xì)情況發(fā)表在《應(yīng)用光學(xué)》2012 年 1 月 10 日號（總第 51 卷，第二期）上。

測定薄膜和多層鍍膜的光學(xué)參數(shù)（使用光學(xué)鍍膜的逆向工程）對于生產(chǎn)高質(zhì)量的產(chǎn)品至關(guān)重要。這些數(shù)據(jù)可以給設(shè)計和生產(chǎn)環(huán)節(jié)提供反饋。對每一層依次進(jìn)行評估后得到的逆向工程結(jié)果可以用來調(diào)整沉積參數(shù)，重校監(jiān)測系統(tǒng)，改善對各層的厚度控制。

通常是使用紫外-可見-近紅外 (UV-Vis-NIR) 或傅里葉變換紅外 (FTIR) 分光光度法進(jìn)行光學(xué)表征，對透明基板上的薄膜樣品垂直入射或接近垂直入射時的透射率 (T)和/或反射率 (R) 的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。然而，基于垂直入射的透射率和反射率測量的光學(xué)表征以及基于垂直或接近垂直入射的透射率和反射率測量數(shù)據(jù)的可靠的逆向工程仍然十分困難。