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2022
06-29

本文有電極制備鍍膜儀的鍍膜原理和技術(shù)優(yōu)勢，快進來看看
電極制備鍍膜儀進行鍍膜的原理是異常輝光放電中稀有氣體產(chǎn)生的等離子體在電場作用下轟擊陰極靶表面，在靶表面濺射分子、原子、離子和電子。濺射粒子具有一定的動能，以一定的方向射向基體表面，在基體表面形成涂層。濺射過程中產(chǎn)生的快電子在正交電磁場中作近似擺線運動，增加了電子行程和氣體電離速率。同時，高能粒子在與氣體碰撞后失去能量，基底溫度較低。涂層可在非耐溫材料上完成。電極制備鍍膜儀技術(shù)優(yōu)勢：1、使用微處理器控制器可以增強系統(tǒng)的靈活性，用戶可以方便地添加各種選項。然而，這些“默認”操作已經(jīng)過優(yōu)化，因此可以實
2022
06-13

磁控濺射鍍膜儀有沒有輻射
磁控濺射儀當(dāng)然有輻射，1、可見光波段：陰極發(fā)射的電子電離介質(zhì)氣體分子，分子/原子光譜。這些光密度不大，不至于刺傷鈦合金狗眼.屬于無害輻射。2、不可見光波段：陰極發(fā)射的電子電離介質(zhì)氣體分子，紅外/紫外，分子/原子光譜。紫外輻射有害3、X射線：氣體電離后的離子，在陰極加速場作用，轟擊陰極靶材，作用區(qū)也比較復(fù)雜，除了實現(xiàn)離子刻蝕濺射以外，還有類似掃描電鏡類似的散射出現(xiàn)，如二次電子，二次離子，及各種射線輻射。在樣品端，電子會激發(fā)出更多X射線，盡管磁控裝置讓大部分電子行程增加，到達樣品其能量衰減近乎零，但
2022
06-09

三種常見的陶瓷電容器有哪些特點及應(yīng)用？
在我們的日常生活中，各種各樣的電子產(chǎn)品給我們的生活、工作、學(xué)習(xí)帶來了很大的便利。電子產(chǎn)品由許許多多細小的電子元器件構(gòu)成，而電容器正是其中應(yīng)用十分廣泛的電子元件之一。電容器種類眾多，在電路中發(fā)揮不同的作用，例如應(yīng)用于電源電路，實現(xiàn)旁路、去耦、濾波和儲能的作用；應(yīng)用于信號電路，主要完成耦合、振蕩/同步及時間常數(shù)的作用。而陶瓷電容器，顧名思義，就是一種介質(zhì)材料為陶瓷的電容器，除此之外介質(zhì)材料還有其他的無機介電材料（如玻璃、云母等），有機介電材料（如聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯等）。一般陶瓷電容器和其他
2022
05-10

陶瓷電容電極材料有哪些改進？
陶瓷電容器一直使用銀電極銀離子遷移和由此而引起含鈦陶瓷介質(zhì)的加速老化是導(dǎo)致陶瓷電容器失效的主要原因有的廠家生產(chǎn)陶瓷電容器已不用銀電極，而改用鎳電極，在陶瓷基片上采用化學(xué)鍍鎳工藝。由于鎳的化學(xué)穩(wěn)定性比銀好，電遷移率低，提高了陶瓷電容器的性能和可靠性。又如，以銀做電極的獨石低頻瓷介質(zhì)電容器，由于銀電極和瓷料在900℃下一次燒結(jié)時瓷料欠燒不能獲得致密的陶瓷介質(zhì)，存在較大的氣孔率；此外銀電極常用的助溶劑氧化鋇會浸到瓷體內(nèi)部，在高溫下依靠氧化鋇和銀之間良好的浸潤“互熔”能力，使電極及介質(zhì)內(nèi)部出現(xiàn)熱擴散現(xiàn)象
2022
04-08

陰極發(fā)光儀和離子濺射儀原理有什么區(qū)別
主要利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(targe
2022
03-07

什么是“磁控濺射靶材”？
當(dāng)你在智能手機或平板電腦，用手指輕輕一劃，就會出現(xiàn)各種頁面，這就是屏幕上一種透明導(dǎo)電薄膜的功勞。現(xiàn)在就帶你認識用于生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜的磁控濺射靶材。它是眾多濺射靶材中發(fā)展迅速且應(yīng)用較廣的一種靶材，目前廣泛應(yīng)用于平板顯示、節(jié)能低輻射玻璃、LED、半導(dǎo)體元器件等行業(yè)。1、磁控濺射靶材的分類根據(jù)材料的成分不同，靶材可分為金屬靶材、合金靶材、無機非金屬靶材等。其中無機非金屬靶材又可分為氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類靶材。根據(jù)幾何形狀的不同，靶材可分為長（正）方體形靶材、圓柱體靶材和不規(guī)則形狀靶材
2021
11-19

磁控濺射儀的種類和換樣過程
磁控濺射儀為一種用于物理學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2015年05月25日啟用。在電場E的作用下，電子在往基片飛去的過程中和氬原子有所碰撞，從而使得Ar正離子和新的電子電離產(chǎn)生。新電子往基片飛去，在電場作用下，Ar離子往陰極靶加速飛去，并且通過高能量對靶表面進行量轟擊，使得靶材發(fā)生濺射。磁控濺射儀種類磁控濺射儀為一種用于物理學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2015年05月25日啟用。磁控濺射為物理氣相沉積的一種。金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料的制備通常會采用一般的濺射法，其的特點為有著較為簡單的設(shè)備，控制起來不困難，
2021
11-17

磁控濺射靶材使用指南
一、濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。為保持鍍膜的成分特性，濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內(nèi)裝入基材后便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。暗區(qū)屏蔽罩，腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。在清洗真空腔體時我們建議采用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時用壓縮空氣清除腔體四
2021
11-08

一文看懂掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備
1.樣品處理的要求掃描電子顯微鏡的優(yōu)勢為可以直接觀察非常粗糙的樣品表面，參差起伏的材料原始斷口。但其劣勢為樣品必須在真空環(huán)境下觀察，因此對樣品有一些特殊要求,籠統(tǒng)的講：干燥，無油，導(dǎo)電。1形貌形態(tài)，必須耐高真空。例如有些含水量很大的細胞，在真空中很快被抽干水分，細胞的形態(tài)也發(fā)生了改變，無法對各類型細胞進行區(qū)分；2.樣品表面不能含有有機油脂類污染物。油污在電子束作用下容易分解成碳氫化物，對真空環(huán)境造成極大污染。樣品表面細節(jié)被碳氫化合物遮蓋；碳氫化合物降低了成像信號產(chǎn)量；碳氫化合物吸附在電子束光路引
2021
11-06

什么是離子濺射儀
離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復(fù)原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。什么是濺射用帶有幾百電子伏特以上動能的粒子或粒子束轟擊固體表面，使靠近固體表面的原子獲得入射粒子所帶能量的一部分而脫離固體進入到真空中，這種現(xiàn)象稱
2021
11-04

差示掃描量熱儀對熔點和玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的判定
差示掃描量熱儀主要面向工業(yè)用戶、科研與教學(xué)，廣泛應(yīng)用于各類材料與領(lǐng)域，工藝優(yōu)化與質(zhì)檢質(zhì)控等。主要測量與熱量有關(guān)的物理和化學(xué)的變化，如物質(zhì)的熔點熔化熱、結(jié)晶點結(jié)晶熱、相變反應(yīng)熱、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度、熱穩(wěn)定性（氧化誘導(dǎo)期）等。不同型號的差示掃描量熱儀重復(fù)性好、準(zhǔn)確度高，特別適合于比熱的準(zhǔn)確測量。自主研發(fā)的恒溫控制器；恒溫氣相色譜、質(zhì)譜連接頭；恒溫帶；可充分保證焦油及各種反應(yīng)氣體的二次檢測。完善的兩路氣氛控制系統(tǒng)，采用質(zhì)量流量控制器；測量過程中，可以選擇二路進氣方式，軟件設(shè)置自動切換。儀器配有標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，用

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