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5當(dāng)前位置：北京格微儀器有限公司>>技術(shù)文章展示
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2025
01-06如何維護(hù)和保養(yǎng)全自動(dòng)離子濺射儀？
全自動(dòng)離子濺射儀是一種基于離子束濺射技術(shù)的先進(jìn)設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、液晶顯示器件、光學(xué)元件、傳感器及其他新型電子元件的制造中。其工作原理如下：1.輝光放電原理：離子濺射儀的工作原理基于輝光放電原理，通過(guò)在負(fù)電極（靶材）和正電極之間加載高電壓，使正離子在電場(chǎng)作用下加速并轟擊靶材。2.濺射過(guò)程：在轟擊過(guò)程中，靶材中的原子獲得足夠的能量而脫離表面，形成濺射物。這些濺射物在真空環(huán)境中沉積到基片上，形成薄膜或涂層。3.精確控制：離子濺射儀通過(guò)精確控制離子束的能量、角度和靶材的成分，實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜或涂層的2025
01-022025
01-02高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀操作步驟涉及多個(gè)環(huán)節(jié)
高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀是一種用于在高真空環(huán)境下通過(guò)加熱蒸發(fā)固態(tài)碳源，使其沉積到工件表面形成均勻、致密碳膜的設(shè)備。其操作步驟涉及多個(gè)環(huán)節(jié)，包括設(shè)備準(zhǔn)備、蒸發(fā)過(guò)程控制以及后續(xù)處理等。以下是詳細(xì)的操作步驟：1.準(zhǔn)備工作環(huán)境準(zhǔn)備：進(jìn)入房間前換拖鞋，穿上防塵服。打開(kāi)房間總電源，照明和插座的電源，并開(kāi)啟排氣扇。同時(shí)，打開(kāi)鍍膜間后面的電源和水源?；逭恚赫砗没澹詼p少真空室在大氣壓狀態(tài)下的時(shí)間，有利于機(jī)械泵和分子泵抽真空。設(shè)備檢查：打開(kāi)鍍膜機(jī)的電源，檢查真空檢測(cè)顯示是否正常，觀察是高真空還是低真空狀態(tài)。2.2025
01-02高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀儀器設(shè)計(jì)新穎且使用安全
高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀在設(shè)計(jì)和使用方面都體現(xiàn)了高度的創(chuàng)新性和安全性。以下是對(duì)其設(shè)計(jì)新穎和使用安全的詳細(xì)闡述：1.設(shè)計(jì)新穎獨(dú)*的插入式設(shè)計(jì)：鍍碳儀采用了獨(dú)*的插入式設(shè)計(jì)，使得變換鍍膜頭變得非常簡(jiǎn)單。這種設(shè)計(jì)不僅提高了設(shè)備的靈活性，還大大簡(jiǎn)化了操作流程。模塊化設(shè)計(jì)：設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，可以輕松避免交叉污染，這對(duì)于需要頻繁更換不同材料或進(jìn)行不同實(shí)驗(yàn)的場(chǎng)合尤為重要。專(zhuān)有的自動(dòng)卷送碳源設(shè)計(jì)：高真空鍍膜儀的一大亮點(diǎn)是其專(zhuān)有的自動(dòng)碳纖維卷繞系統(tǒng)。這一系統(tǒng)能夠在每次蒸發(fā)后自動(dòng)推進(jìn)碳纖維，無(wú)需破真空即可進(jìn)行數(shù)十次的鍍2024
12-232024
12-202024
11-05磁控離子濺射儀的工作原理與技術(shù)優(yōu)勢(shì)
磁控離子濺射儀的工作原理與技術(shù)優(yōu)勢(shì)概述如下：工作原理磁控離子濺射儀的工作原理基于電場(chǎng)與磁場(chǎng)的相互作用。在電場(chǎng)的作用下，電子加速飛向基片，途中與氬原子碰撞，使其電離產(chǎn)生Ar正離子和新的電子。Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。濺射出的中性靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。同時(shí)，產(chǎn)生的二次電子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用下產(chǎn)生E×B漂移，被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并在該區(qū)域中電離出大量的Ar來(lái)轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。技術(shù)優(yōu)勢(shì)沉積速率高：由于離子能量高，2024
10-212024
10-152024
10-11全自動(dòng)離子濺射儀：技術(shù)原理與應(yīng)用領(lǐng)域
全自動(dòng)離子濺射儀是一種基于離子束濺射技術(shù)的先進(jìn)設(shè)備，在多個(gè)領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。以下是關(guān)于全自動(dòng)離子濺射儀的技術(shù)原理與應(yīng)用領(lǐng)域的簡(jiǎn)要介紹。技術(shù)原理：全自動(dòng)離子濺射儀的工作原理基于輝光放電原理，通過(guò)在負(fù)電極（靶材）和正電極之間加載高電壓，使正離子在電場(chǎng)作用下加速并轟擊靶材。在轟擊過(guò)程中，靶材中的原子獲得足夠的能量而脫離表面，形成濺射物。這些濺射物在真空環(huán)境中沉積到基片上，形成薄膜或涂層。離子濺射儀通過(guò)精確控制離子束的能量、角度和靶材的成分，實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜或涂層的精確制備。應(yīng)用領(lǐng)域：全自動(dòng)離子濺射儀在多個(gè)領(lǐng)2024
09-182024
09-142024
09-062024
08-26全自動(dòng)離子濺射儀性能性能優(yōu)勢(shì)
全自動(dòng)離子濺射儀通過(guò)先進(jìn)的電磁場(chǎng)控制技術(shù)，能夠精確地控制離子束的濺射和沉積過(guò)程，從而實(shí)現(xiàn)高精度的材料合成與改性。這種高精度的控制不僅提高了實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性，還為各種精密制造和科研提供了強(qiáng)大的技術(shù)支持。在效率方面，離子濺射儀具備高能量的離子束，能夠快速完成材料的濺射和沉積，大大縮短了實(shí)驗(yàn)時(shí)間。同時(shí)，其自動(dòng)化的操作減少了人工干預(yù)，使得整個(gè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程更加高效和便捷。全自動(dòng)離子濺射儀適用于多種材料，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體等。無(wú)論是在半導(dǎo)體制造、金屬表面改性還是生物醫(yī)學(xué)工程領(lǐng)域，它都能發(fā)揮重要作用。例如，在2024
08-212024
08-08深入探索：磁控離子濺射技術(shù)的多領(lǐng)域應(yīng)用與挑戰(zhàn)
磁控離子濺射技術(shù)作為一種先進(jìn)的薄膜沉積方法，在現(xiàn)代工業(yè)和科研中展現(xiàn)出廣泛的應(yīng)用前景。該技術(shù)利用磁場(chǎng)控制下的高能離子轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射并沉積在基板上，形成均勻致密的薄膜。在微電子領(lǐng)域，磁控離子濺射技術(shù)被用于制備金屬導(dǎo)電層、絕緣層及阻擋層等關(guān)鍵薄膜，對(duì)半導(dǎo)體器件、集成電路及傳感器的性能提升起到了重要作用。在光電子領(lǐng)域，該技術(shù)則用于制備透明導(dǎo)電膜、反射膜及增透膜等功能薄膜，廣泛應(yīng)用于顯示器件、光伏電池及光學(xué)薄膜的制造中。此外，磁控離子濺射技術(shù)還延伸至納米技術(shù)、新材料及生物醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。在2024
07-15如何利用高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀開(kāi)發(fā)新型功能材料？
利用高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀開(kāi)發(fā)新型功能材料，可以從多個(gè)方面進(jìn)行研究和創(chuàng)新。以下是具體的探討：1.選擇蒸發(fā)材料：選用具有性能的材料，如二維材料、有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化材料等，通過(guò)熱蒸發(fā)鍍碳儀的高精度控制，實(shí)現(xiàn)這些材料的薄膜沉積。通過(guò)調(diào)整蒸發(fā)參數(shù)，優(yōu)化薄膜的結(jié)晶性和微觀結(jié)構(gòu)，從而開(kāi)發(fā)出具有新穎物理和化學(xué)特性的功能材料。2.優(yōu)化制備條件：通過(guò)精確控制襯底溫度、蒸發(fā)速率及膜厚，研究這些參數(shù)對(duì)薄膜生長(zhǎng)的影響。例如，通過(guò)改變襯底溫度可以調(diào)控薄膜的微結(jié)構(gòu)，使其在納米尺度上表現(xiàn)出不同的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)。3.結(jié)合等離子處理：利2024
07-12高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀的組成結(jié)構(gòu)及作用
高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀由真空腔室、蒸發(fā)源、控制系統(tǒng)和真空泵等組成，其作用包括制備金屬膜和有機(jī)膜、提高純度和控制精度、應(yīng)用于微納器件的制備等。高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀的組成：1.真空腔室：提供一個(gè)封閉環(huán)境，排除空氣和其他氣體，確保蒸發(fā)材料在飛行過(guò)程中不受氣體分子干擾，提高薄膜質(zhì)量。2.蒸發(fā)源：通常使用電阻加熱或電子束加熱方式，使金屬或有機(jī)物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)源是決定蒸發(fā)速率和薄膜厚度均勻性的關(guān)鍵因素。3.控制系統(tǒng)：精確控制蒸發(fā)過(guò)程，包括蒸發(fā)溫度、速率、薄膜厚度等，確保成膜的精確性和重復(fù)性。4.真空泵：抽出腔室內(nèi)氣2024
07-09磁控離子濺射儀技術(shù)原理與工業(yè)應(yīng)用
磁控離子濺射儀是一種先進(jìn)的物理氣相沉積設(shè)備，其技術(shù)原理基于高能粒子（主要是離子）轟擊靶材的過(guò)程。在高真空環(huán)境中，電子在電場(chǎng)的作用下加速并飛向靶材，途中與氬原子發(fā)生碰撞，產(chǎn)生Ar正離子和新的電子。這些Ar正離子在電場(chǎng)作用下進(jìn)一步加速，以高能量轟擊靶材表面，使靶材原子或分子獲得足夠的能量而脫離靶材表面，形成濺射粒子。這些濺射粒子隨后沉積在基體上，形成所需的薄膜。磁控離子濺射儀的工業(yè)應(yīng)用極為廣泛，主要得益于其高效、均勻且可控的濺射過(guò)程。在微電子領(lǐng)域，磁控濺射技術(shù)被用于制備高質(zhì)量的導(dǎo)電層、絕緣層以及各種2024
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