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浙江寧波市
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  晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備是由高精度光學(xué)檢測顯微鏡搭載全自動晶圓搬運系統(tǒng)組成,支持4-12寸的晶圓尺寸,可輕松實現(xiàn)多角度、全視野的宏觀檢查、以及晶圓微觀細節(jié)的高清捕捉,可對半導(dǎo)體過程工藝中的關(guān)鍵參數(shù)、缺陷問題進行有效監(jiān)控,是晶圓來料檢測和工藝控制流程缺陷分析的高效利器。
  晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備兼具穩(wěn)定性和安全性,能夠安全可靠的傳送晶圓,適合于前道到后道工程的晶圓檢查一個晶圓在經(jīng)過一系列復(fù)雜工序后最終變成多個IC單元,期間晶圓需要依賴搬運機在處理站之間執(zhí)行快速、精確的傳送作業(yè)。納米級厚度的晶圓很容易在傳送過程中損壞,而且還須確保在工序中晶圓表面不得有臟污、缺陷等。
晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備
  SOPTOP擁有AWL046、AWL068、AWL812三種機型,多類配置,分別可適用于 4/6 英寸,6/8英寸、8/12英寸的晶圓檢測,適應(yīng)范圍廣、搭配靈活 。
晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備
  可自由設(shè)置的檢查模式,充分符合人機工程學(xué)設(shè)計,操作舒適、簡便。
晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備
  一、應(yīng)用領(lǐng)域:
晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備
  二、360°宏觀檢查:
  AWL系列具有宏觀檢查手臂,可以實現(xiàn)晶面宏觀檢查、晶背宏觀檢查1的360°旋轉(zhuǎn),更為容易發(fā)現(xiàn)傷痕和微塵。通過操作桿可隨意將晶圓傾斜觀察。晶面最大傾斜角度70°,晶背1最大傾斜角度90°,晶背2最大傾斜角度160°,利用旋轉(zhuǎn)功能、傾斜角度,可以目視檢查整個晶圓正反面及邊緣。
晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備
  三、人機工程學(xué)設(shè)計:
  LCD 顯示屏,可為操作者提供更直觀的視覺體驗,可清晰的顯示當(dāng)前檢查項目及次序,調(diào)試參數(shù)一目了然。手動快速釋放真空載物臺可提高操作者的舒適度和工作效率。
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  四、精密微觀檢查:
  采用專業(yè)半復(fù)消色差金相物鏡,可滿足明場、暗場、DIC、偏光等多種觀察方式。全新電動控制系統(tǒng),可排查 μm 級異常,諸如孔未開出,短路,斷路,沾污,氣泡,殘留等。
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