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- 上海上海市
- 公司名稱:
- 上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限
簡介: MLA150專屬為研發(fā)型以及中小批量生產(chǎn)的客戶而設(shè)計的激光直寫解決方案。區(qū)別于過去傳統(tǒng)的工藝技術(shù)而開發(fā)的無掩膜激光直寫技術(shù),將設(shè)計圖形直接曝光到涂覆有光刻膠......
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簡介: 品牌:Elionix型號:ELS-F125/F100/HS50電子束曝光,電子束直寫,電子束光刻用途:利用電子束在抗蝕劑上書寫納米級圖案,通過ELB設(shè)備曝光和顯影,可用于加工sub-......
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簡介: 產(chǎn)地:法國AnnealSys;型號:AS-One100/AS-One150AS-ONE立式快速退火爐為法國AS公司生產(chǎn),分為AS-ONE100,150,200三個型號,分別對應(yīng)4英寸、6英寸、8英寸的真空快......
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簡介: NovocontrolGmbH是德國一家專業(yè)的電介質(zhì)頻率譜、阻抗譜、溫度譜等電介質(zhì)材料物理量測量儀器的生產(chǎn)廠家,創(chuàng)立于1980年。Novocontrol的介電譜儀可以通過與Keysight......
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簡介: KurtJ.LeskerCompany(KJLC)ALD150LE?是我們但極其靈活的原子層沉積(ALD)系統(tǒng),專為入門級到中級用戶而設(shè)計。該ALD150LE?配置為純熱原子層沉積,工藝室設(shè)計......
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簡介: SENTECHSI500CCP系統(tǒng)使用動態(tài)溫度控制和氦背冷卻,代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設(shè)置和穩(wěn)定性是高質(zhì)量蝕刻的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)。具有動態(tài)溫......
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簡介: SUSSMicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計了一款新型光刻平臺:MA100/150eGen2掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)。化合物半導(dǎo)體工藝,是指諸如高亮發(fā)光二極管(HB-LEDs)、功率......
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簡介: μMLA無掩模光刻機(jī)是優(yōu)良的無模板技術(shù),建立在著名的μPG平臺之上,該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。適合6寸及以下襯底。......
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