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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限

簡介： KurtJ.LeskerCompany（KJLC）ALD150LE?是我們但極其靈活的原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，專為入門級到中級用戶而設(shè)計。該ALD150LE?配置為純熱原子層沉積，工藝室設(shè)計......

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限

簡介： SENTECHSI500CCP系統(tǒng)使用動態(tài)溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設(shè)置和穩(wěn)定性是高質(zhì)量蝕刻的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)。具有動態(tài)溫......

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簡介： SUSSMicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計了一款新型光刻平臺：MA100/150eGen2掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)?；衔锇雽?dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極管（HB-LEDs）、功率......

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限

簡介： μMLA無掩模光刻機(jī)是優(yōu)良的無模板技術(shù)，建立在著名的μPG平臺之上，該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。適合6寸及以下襯底。......

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簡介： CM300xi探針臺可應(yīng)對極其復(fù)雜的環(huán)境帶來的測量挑戰(zhàn)，例如在長時間和多種溫度下在小焊盤上進(jìn)行無人值守的測試。在EMI屏蔽、光密和無濕氣的測試環(huán)境中，為各種應(yīng)用......

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簡介： BeneqTFS200是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計。BeneqTFS200經(jīng)過專門設(shè)計，可最大限度地減少多用戶研究環(huán)境中可能發(fā)生的任何......

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簡介： TFS500是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個Beneq反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS500是多項目環(huán)境的理想工具......

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簡介： SENTECHSI591緊湊型RIE等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能，是氯基和氟基RIE的緊湊型解決方案。......