Plasma線性等離子清洗設(shè)備：

等離子屬于物質(zhì)的第四態(tài)，氣體通過被電離后成為離子態(tài)，是由離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等組成。等離子清洗目前適用的行業(yè)很廣泛，在塑膠、光學(xué)，電子，航空航天，機(jī)械，汽車等行業(yè)都廣泛應(yīng)用，通過等離子體清洗的產(chǎn)品表面光澤好，光滑度高，粘接力強(qiáng)，清潔表面更*更持久穩(wěn)定。

深圳瑞程科技有限公司研發(fā)的這款Plasma線性等離子清洗設(shè)備在清洗產(chǎn)品面積上更大的優(yōu)勢，尺寸可做到0.02m-5m，可滿足更多客戶的生產(chǎn)要求，也可根據(jù)客戶要求非標(biāo)定制設(shè)備尺寸；而且可以控制產(chǎn)品在清洗時(shí)的溫度在35度以下，確保清洗基材因溫度過高而影響基材性能；傳統(tǒng)點(diǎn)式等離子清洗效果只能維持在1小時(shí)以內(nèi)，會隨著時(shí)間的延長性能變差，而線性等離子清洗后的產(chǎn)品性能穩(wěn)定，不會因時(shí)間的變化而反彈或變差；選配的氣體可單純1種氣體清洗，也可做混合氣體清洗，選用的氣體由大氣，氧氣，氮?dú)?，氬氣等可選擇；選配的電源可選射頻電源，也可選高頻電源，低功率和高功率的都可選擇，可根據(jù)客戶清洗的基材和要求做清洗方案，也可根據(jù)客戶的要求定制設(shè)備；目前線性等離子清洗的效果已被很多客戶所認(rèn)可和高度評價(jià)，傳統(tǒng)的點(diǎn)式等離子清洗漸漸被線性等離子清洗所替代，線性等離子清洗的速度更快，處理面積更大，質(zhì)量更高更穩(wěn)定，自動化程度更高，可為客戶定制做非標(biāo)自動化等離子清洗線，為客戶節(jié)省公司成本，提高生產(chǎn)效率。