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R50 KLA 四探針電阻率測量儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 優(yōu)尼康科技有限公司
  • 品牌 KLA-Tencor
  • 型號(hào) R50
  • 產(chǎn)地 美國
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/6/24 13:35:05
  • 訪問次數(shù) 1388

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優(yōu)尼康科技有限公司成立于 2012 年。在香港、上海、東莞、天津、成都和蘇州設(shè)有分支機(jī)構(gòu)或辦公室。從成立伊始一直專注于精密薄膜測量領(lǐng)域,為半導(dǎo)體、面板等高科技企業(yè)和高校及研發(fā)中心提供精密測量設(shè)備與解決方案。我們秉承“真誠,專注,信賴”的理念,用我們真誠的態(tài)度與行動(dòng)服務(wù)客戶,專注于為客戶提供好品質(zhì)、適合用戶需求的產(chǎn)品,與每一位客戶建立互相信賴的合作伙伴關(guān)系。我們真誠希望與大家共同成長,共同發(fā)展,一起創(chuàng)造美好的明天。







主動(dòng)式減震臺(tái),Profilm3D光學(xué)輪廓儀,Filmetrics膜厚測量儀,薄膜厚度測量儀,粗糙度測量,輪廓測量,橢偏儀

應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源,建材/家具,電子/電池,制藥/生物制藥

KLA R50 四探針電阻率測量儀




KLA R50 四探針電阻率測量儀產(chǎn)品介紹:

KLA R50 四探針電阻率測繪系統(tǒng)是KLA電阻測試系列的產(chǎn)品。電阻測量和監(jiān)控對(duì)于任何使用導(dǎo)電薄膜的行業(yè)都相當(dāng)重要,從半導(dǎo)體制造到可穿戴技術(shù)所需的柔性電子產(chǎn)品。KLA R50 四探針電阻率測量儀在金屬膜均勻性分布、離子摻雜和注入表征、薄膜厚度和電阻率分布、以及非接觸膜厚等量測領(lǐng)域均可涉及。



KLA R50 四探針電阻率測量儀優(yōu)勢:

  • 接觸式四點(diǎn)探針(4PP)和非接觸式電渦流(EC)配置;

  • 100mmZ行程,高精度控制;

  • 導(dǎo)體和半導(dǎo)體薄膜電阻,10個(gè)數(shù)量級(jí)范圍適用;

  • 測試點(diǎn)自定義編輯,包括矩形、線性、極坐標(biāo)以及自定義配置;

  • 200mmXY電動(dòng)平臺(tái);

  • RSMapper軟件靈活易用;

  • 兼容KLA所有薄膜電阻測量探針;



KLA R50 四探針電阻率測量儀測量原理:

四點(diǎn)探針(4PP)由四個(gè)導(dǎo)電探針組成的探頭以可控力接觸導(dǎo)電層表面,其中在被測導(dǎo)電層和襯底之間有非導(dǎo)電阻擋層。標(biāo)準(zhǔn)測量的探針配置是在兩個(gè)外側(cè)探針之間施加電流并在兩個(gè)內(nèi)側(cè)探針之間測量電壓。測量薄膜電阻時(shí),導(dǎo)電層厚度應(yīng)小于兩個(gè)探針之間距離的1/2。KLA在R50四探針電阻率測量儀上研發(fā)了雙模技術(shù),該技術(shù)允許測量間隔探針上的電壓,并配置了邊界效應(yīng)動(dòng)態(tài)校正和探針間距誤差補(bǔ)償功能。KLA提供了豐富的探針類型以適用和優(yōu)化不同表面材料的特性表征測量,幾乎可用于任何導(dǎo)電薄膜或離子注入層。


電渦流(EC)是非接觸式導(dǎo)電薄膜測量技術(shù)。通過線圈施加時(shí)變電流以產(chǎn)生時(shí)變磁場,當(dāng)該磁場靠近導(dǎo)電表面時(shí),會(huì)在該表面中產(chǎn)生感應(yīng)時(shí)變電流(渦流)。這些電渦流反過來會(huì)產(chǎn)生它們自己的時(shí)變磁場,該磁場與探針線圈耦合并產(chǎn)生與樣品的電阻成比例的信號(hào)變化。KLA特殊的EC技術(shù),單個(gè)探頭位于樣品頂部,可以動(dòng)態(tài)的調(diào)整每個(gè)測量點(diǎn)的探頭高度,這對(duì)測量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性相當(dāng)重要。EC法不受探頭尺寸或表面氧化的影響,非常適合較軟的或其它不適用于4PP接觸法測量的樣品。



KLA R50 四探針電阻率測量儀行業(yè)應(yīng)用:

半導(dǎo)體

平板和VR顯示

化合物半導(dǎo)體

先進(jìn)封裝

太陽能

印刷電路

穿戴設(shè)備

導(dǎo)電材料



KLA R50 四探針電阻率測量儀產(chǎn)品應(yīng)用:

一、金屬薄膜均勻性

金屬薄膜的薄膜電阻均勻性對(duì)于確保元件性能相當(dāng)重要,大多數(shù)金屬薄膜都可以通過4PP和EC進(jìn)行測量。EC推薦用于較厚的高導(dǎo)電金屬膜,4PP適用于較薄的金屬膜(>10Ω/sq),但無論如何,4PP/EC均表現(xiàn)出很高相關(guān)性,從而可以確保使用任何一種方法都可以獲得準(zhǔn)確的結(jié)果。KLA R50 四探針電阻率測量儀電阻分布圖可以表征薄膜均勻性、沉積質(zhì)量及其它工藝波動(dòng)。


二、離子注入表征

4PP法是衡量離子注入工藝的標(biāo)準(zhǔn)測量技術(shù)。在熱退火后通過測試離子注入分布可以識(shí)別由于燈故障、晶圓/平臺(tái)接觸不良或注入劑量變化而引起的熱點(diǎn)和冷點(diǎn)。對(duì)于硅離子注入層,熱退火工藝對(duì)于活化摻雜離子是必要的。


三、薄膜厚度/電阻率/薄膜電阻

通過采集的晶圓數(shù)據(jù),KLA R50 四探針電阻率測量儀可以繪制出薄膜電阻、薄膜厚度或電阻率分布圖。通過輸入材料的電阻率,可以計(jì)算和顯示膜厚分布;或者通過輸入膜厚數(shù)據(jù),則可以計(jì)算電阻率分布。


四、數(shù)據(jù)采集和可視化

KLA R50 四探針電阻率測量儀的RSMapper軟件將數(shù)據(jù)采集和強(qiáng)大的分析功能結(jié)合在一起,擁有直觀的可視化界面,即可以用于設(shè)備本身,也可以進(jìn)行離線使用。軟件自帶的各種坐標(biāo)布局工具可以幫助用戶輕松設(shè)置數(shù)據(jù)測量點(diǎn)。



KLA R50 四探針電阻率測量儀產(chǎn)品參數(shù):

Z范圍:

60mm

Z平臺(tái)類型:

自動(dòng)

X-Y平臺(tái)類型:

自動(dòng)

樣品臺(tái)最大承重:

2.5kg

傾斜樣品臺(tái):

±5°手動(dòng)


電學(xué)性能


R50-4PP

R50-EC

測量點(diǎn)重復(fù)性:

<0.02%

<0.2%

準(zhǔn)確性:

±0.2%

±1%

更多參數(shù)可聯(lián)系我們獲取


KLA R50 四探針電阻率測量儀測量圖:




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