Pluto-30^TM技術(shù)規(guī)格

1. 電源系統(tǒng)：RF射頻電源：頻率13.56MHz；功率≥500W連續(xù)可調(diào)；動(dòng)態(tài)范圍：1~500W;控制精度：1~100W ±2W ;>100W ±2% ;，輸出穩(wěn)定性：-20分貝。全自動(dòng)匹配阻抗電源，可自動(dòng)調(diào)整阻抗反射

2. 真空腔體：經(jīng)檢漏測(cè)試的316不銹鋼腔體，內(nèi)部尺寸300W x 280H x 366Dmm

3.電極尺寸（有效處理面積）：接地電極尺寸：226W x 210D mm;功率電極尺寸：226W x 210D mm

4. 電極數(shù)量：7層，工作面最多可達(dá)6層（標(biāo)配一對(duì)電極）

插桿式，6061-T6鋁合金，電極間距：48mm（可根據(jù)需求更改電極數(shù)量和間距）

5. 在腔體范圍內(nèi)，根據(jù)電極間隙自由設(shè)置工作距離，以適應(yīng)不同規(guī)格樣品。

6.針對(duì)不同材料屬性，可自由設(shè)置電極屬性

7.氣體控制：標(biāo)配1路氣體，1個(gè)MFC（質(zhì)量流量控制閥），20-200sccm 最多可升級(jí)至4路氣體，4個(gè)MFC控制器 （氬氣、氧氣、氮?dú)?、氫氣、四氟化碳可選）

8.xtance氣體多層均分方案，可將等離子體均勻分配至樣品表面

9. 設(shè)備控制系統(tǒng)：7寸工業(yè)控制電容觸摸屏，PLC+控制技術(shù)，設(shè)置各項(xiàng)參數(shù)，實(shí)時(shí)顯示設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)，界面友好，操作方便

10.真空變頻控壓，可實(shí)現(xiàn)控制真空腔內(nèi)恒定壓力。

11.真空度過(guò)低報(bào)警，氣源壓力不足報(bào)警，錯(cuò)誤氣體報(bào)警，等一系列報(bào)警措施

12. 真空系統(tǒng)：油泵:TRP-24抽氣速率   （50Hz） L/S  6（可選干泵）

13.真空計(jì)：皮拉尼真空計(jì)

14.真空管路：全不銹鋼管路，以及高強(qiáng)度真空波紋管

15. PLUTO-30軟件參數(shù)

1. 實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)顯示各部件工作狀態(tài),并顯示相對(duì)應(yīng)數(shù)值,包括閥門(mén)開(kāi)啟與關(guān)閉,流量計(jì),射頻電源是否開(kāi)啟等實(shí)時(shí)信息

2. 工藝界面:可選擇自動(dòng)運(yùn)行或手動(dòng)運(yùn)行,編輯工藝程序,系統(tǒng)配置,運(yùn)行設(shè)定,監(jiān)控查看運(yùn)行圖表及相關(guān)系統(tǒng)設(shè)定

3. 全手動(dòng)操作:整個(gè)工藝過(guò)程,包括真空泵啟動(dòng),工藝氣體時(shí)間,功率,輝光放電等均由人工干預(yù)控制.

4. 系統(tǒng)可自由設(shè)定(包括在設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中)等離子RF功率,處理時(shí)間,真空度,氣體流量,氣體穩(wěn)定時(shí)間,氣體通入時(shí)間,吹掃,破真空等工藝參數(shù)

5. 操作人員可設(shè)置系統(tǒng)登錄賬戶(hù)和密碼,密碼可由經(jīng)過(guò)設(shè)置權(quán)限的操作人員設(shè)定和更改,并登錄和退出系統(tǒng)賬號(hào)(共有3個(gè)級(jí)別)

6. 工藝參數(shù)由被設(shè)定權(quán)限的操作人員設(shè)定,每個(gè)工藝參數(shù)最多可以有5個(gè)工藝步驟組成,可根據(jù)工藝要求設(shè)定每個(gè)工藝參數(shù)并設(shè)定每個(gè)步驟的相隔時(shí)間

7. 可設(shè)定工藝程序底壓與是否開(kāi)啟吹掃功能和抽底壓時(shí)限

8. 報(bào)警:可設(shè)定工藝壓力偏移報(bào)警(時(shí)間,范圍),射頻功率報(bào)警(時(shí)間和范圍),真空腔泄漏自檢功能

9. 可忽略系統(tǒng)工藝運(yùn)行時(shí)間的邏輯設(shè)定,單獨(dú)控制閥門(mén),流量計(jì)及射頻電源的開(kāi)啟與關(guān)閉,以在特殊情況下或應(yīng)用中設(shè)定系統(tǒng)狀態(tài)

16. 外形尺寸：706W x 920D x 1415H mm（寬×深×高）

Pluto-30^TM性能優(yōu)勢(shì)

（1）電源：采用高壓激勵(lì)電源電路技術(shù)，產(chǎn)生高密度等離子體，能夠穩(wěn)定持續(xù)的作用于樣品表面。耐壓能力強(qiáng)，持續(xù)穩(wěn)定工作。

（2）全面安全防護(hù)：設(shè)備有完善預(yù)防裝置和眾多標(biāo)識(shí)，以針對(duì)于設(shè)備本身安全性和操作人員的安全保障，

（3）放電技術(shù)：電極設(shè)計(jì)，可調(diào)節(jié)電極間距，以適用不同規(guī)格的產(chǎn)品，同時(shí)又能保證良好處理效果，保障用戶(hù)使用需求

（4）真空腔體制造：因?yàn)椴馁|(zhì)中雜質(zhì)含量會(huì)對(duì)等離子體會(huì)產(chǎn)生干擾，所以，我們所有的真空腔體均采用腔體采用316不銹鋼，并通過(guò)嚴(yán)格的檢漏測(cè)試。

（5）優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品部件：產(chǎn)品部件帥選，經(jīng)過(guò)多年的考量和磨合，選出適合和優(yōu)質(zhì)的部件，確保設(shè)備性能*和長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定的運(yùn)行

（6）低清洗溫度：滿(mǎn)足不同場(chǎng)合溫度要求，不對(duì)清洗產(chǎn)品造成溫度影響。同時(shí)，我們還能提供水冷電極，以針對(duì)溫度非常敏感的產(chǎn)品

（7）精密數(shù)控加工：進(jìn)口精密CNC數(shù)控機(jī)床加工工藝，并配備進(jìn)口三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x進(jìn)行質(zhì)量監(jiān)控。

（8）適用形狀復(fù)雜樣品：清洗各種復(fù)雜形狀的產(chǎn)品，包括內(nèi)孔內(nèi)壁，均勻清洗

（9）多種控制方式：設(shè)備采用PLC+觸摸屏控制方式，具備手動(dòng)和全自動(dòng)兩種控制手段，能夠滿(mǎn)足各種不同應(yīng)用層面的控制需求（從產(chǎn)品處理至科學(xué)研究）